• FPD・半導体用 ガラス基板搬送ケース※1個から生産可能 製品画像

    FPD・半導体用 ガラス基板搬送ケース※1個から生産可能

    PRG1~G6hの様々なサイズにも対応。精密・高品質なガラス搬送ケースの製…

    当社の『ケース事業』では、お客様のニーズに合わせて、ケースの製作・ 修理・洗浄・保管から輸送までトータルシステムをご提案します。 精密・高品質なガラス搬送ケースの製造・クリーンルーム洗浄から物流 支援まで幅広く手掛けています。 また、長年培ってきたガラス精密加工技術をベースに、フラットパネル ディスプレイ用(LCD・OLED)フォトマスク用・メタルマスクのケースなどの 先端分野...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ディー・アール・エス(DRS)

  • 医薬API粉砕装置『アペックスミルF&M』 製品画像

    医薬API粉砕装置『アペックスミルF&M』

    PR金属系コンタミを大幅に抑制したビーズミル。処理速度も向上。「第26回 …

    医薬品API粉砕装置『アペックスミルF&M』はミル、タンク、ポンプを一体にし サニタリー性の改善とコンタミの抑制を徹底的に追求したビーズミルです。 特許出願中の「動的シーリング機構」の採用でメカニカルシールを省略。 分解洗浄の手間を省き、スラリーへの摺動部摩耗粉の混入を防止しています。 【特長】 ■メカニカルシール不要の独自構造で金属・シール液によるコンタミを防止 ■ビーズ分離部からの金属コン...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社広島メタル&マシナリー ケムテック事業部

  • ナノ級 高純度 Siスラッジ精製品『Si-P-015』 製品画像

    ナノ級 高純度 Siスラッジ精製品『Si-P-015』

    短時間で100nmレベルへの粉砕が可能!リチウムイオン電池負極用シリコ…

    『Si-P-015』は、シリコンウエハー切削工程から排出されるSiスラッジを、 洗浄・乾燥・粉砕・分級したリチウムイオン電池負極用のSi粉末です。 高純度シリコンウエハーの切削物であるため、元々、不純物濃度は極めて低く、 切削工程中で金属不純物の混入が有りますが、Si純度は4N以上(C/Oを除く)の水準です。 乾燥状態でD50=0.584μmの粒子径を達成していますが、結晶がフレー...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • LiB負極用 3N高純度 シリコン(Si)微粉末 製品画像

    LiB負極用 3N高純度 シリコン(Si)微粉末

    Si純度>99.9% リチウムイオン電池負極用 シリコン(Si)微…

    金属冶金法ポリシリコン(4N)以上を出発原料とする、 3N(Si>99.9%) Si微粉末 ...Si > 99.9% Fe=38.6ppm Al=27.3ppm Ca= 6.3ppm P= 5.8ppm B= 0.87ppm D10=0.757 μm D50=1.112 μm D90=1.641 μm *1mm程度まで粉砕後、酸洗浄。 *その後、ビーズ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • LiB負極用 4N超高純度 シリコン(Si)微粉末 製品画像

    LiB負極用 4N超高純度 シリコン(Si)微粉末

    Si純度>99.99% リチウムイオン電池負極用 シリコン(Si)…

    金属冶金法ポリシリコン(5N)以上を出発原料とする、 4N(Si>99.99%) Si微粉末 ...Si > 99.99% D10=0.387 μm D50=1.535 μm D90=8.736 μm *1mm程度まで粉砕後、酸洗浄。 *その後、ビーズミル。 *上記は、量産品の測定結果ですが、保証値ではありません。 *保証スペックについては、契約にて協議・決定しま...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

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