• ウルトラファインバブル水を使用した『MUFB温水洗浄機』 製品画像

    ウルトラファインバブル水を使用した『MUFB温水洗浄機』

    PRウルトラファインバブル水を使用した温水洗浄で、ボイラー燃料使用量を約3…

    『 UP0814H』は、微細気泡(ウルトラファインバルブ)生成部を備える 温水洗浄機です。80℃の温水と比較して60℃のウルトラファインバルブ水 の方が洗浄(除塩・除油)効果が高く、温水温度を下げて使用可能です。 温水温度を80℃から60℃へ下げることでCO2を削減し洗浄時間短縮も短縮。 ボイラー燃料使用量は約30%削減でき、コストダウンに貢献します。 【特長】 ■微細気泡(ウ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社丸山製作所 産機営業部

  • 【新製品】脱脂用洗浄剤 『ネクシアS-63』フッ素系洗浄剤  製品画像

    【新製品】脱脂用洗浄剤 『ネクシアS-63』フッ素系洗浄剤

    PRHFCを含まないフッ素系洗浄剤!様々な法規制に非該当!PC・ABS樹脂…

    『ネクシアS-63』は脱脂洗浄に適したフッ素系洗浄剤です。鉱物油系加工油付着の鋼板・金型・ロール等の手拭き洗浄、金属加工部品の浸漬洗浄等が可能。他フッ素系洗浄剤と比べて、コストパフォーマンスに優れております。HFCを含まないフッ素系洗浄剤のため、環境に配慮した洗浄剤です。 『ネクシアS-63』の主な特長 1)HFC,臭素を含まないため、法規制の該当が少ないことによる扱いやすさ 2)オゾン破壊係数...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社カネコ化学

  • 全自動CMP装置『MGP-808XJ』 製品画像

    全自動CMP装置『MGP-808XJ』

    ドライイン/ドライアウトが可能!シリコンウェーハの鏡面仕上げ用装置

    XJ」の後継機種の 全自動CMP装置です。 当社開発の新型Headを採用し、ウェーハ表面のGBIR、SFQRの向上を実現。 搬送はエッジクランプ又はエッジコンタクト方式です。 また、洗浄機との結合によりドライイン/ドライアウトが可能です。 【特長】 ■ラップマスター SFT製「LGP-808XJ」の後継機種 ■ウェーハ表面のGBIR、SFQRの向上を実現 ■8研磨Hea...

    メーカー・取り扱い企業: ミクロ技研株式会社 本社

  • 磁気浮上型ベアリングレスポンプ BPS-2000 製品画像

    磁気浮上型ベアリングレスポンプ BPS-2000

    寿命がある軸受や摩耗するシールを使わない、革新的な磁気浮上式遠心ポンプ…

    【主な特長】 ○寿命がある軸受や、摩耗するシールを使わない ○微粒子の発生がほとんどない →接液部に機械的接触がない部品で構成されている為 →半導体洗浄プロセスでの微粒子発生他ポンプに比べ10~50倍微粒子の発生が減少する ○保守コストを削減 →軸受・バルブ・軸シール等がなく、高額なオーバーホールも不要な為 ○装置の稼働率が高められる ...

    メーカー・取り扱い企業: Levitronix Japan株式会社

  • 【瞬時電圧低下補償装置TSP】なぜ保護が必要なのか? 製品画像

    【瞬時電圧低下補償装置TSP】なぜ保護が必要なのか?

    瞬時電圧低下による製品不良の発生と装置故障の損害からラインを守る『TS…

    ター、パソコン、電磁開閉器、高圧放電ランプ、 マグネット・スイッチ付きモーターなどが瞬時電圧低下の影響を受けて 動作に支障をきたす可能性があります。 シリコンメーカ様では研磨、エッチング、洗浄工程等で影響を受ける 可能性があり、デバイスメーカ様ではCVD、スパッタ、フォトリソ、 エッチング、イオン注入、拡散、洗浄工程での影響が想定されます。 このため半導体の製造設備に対し「SE...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社シナジー

  • 磁気浮上型ベアリングレスポンプ BPS-600 製品画像

    磁気浮上型ベアリングレスポンプ BPS-600

    Better pump for Better Yields !

    【主な特長】 ○寿命がある軸受や、摩耗するシールを使わない ○微粒子の発生がほとんどない →接液部に機械的接触がない部品で構成されている為 →半導体洗浄プロセスでの微粒子発生他ポンプに比べ10~50倍微粒子の発生が減少する ○保守コストを削減 →軸受・バルブ・軸シール等がなく、高額なオーバーホールも不要な為 ○装置の稼働率が高められる ...

    メーカー・取り扱い企業: Levitronix Japan株式会社

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