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真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』
PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…
ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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PR原則成功報酬&見積もり無料で安心。機械・装置の更新コストを削減!復刻や…
設備はまだ使用できるのに、故障してしまった基板等が手に入らず、 泣く泣く設備更新をした経験はございませんか? 当社では、故障した基板を解析・診断して修理を行い、 故障したICを交換、基板上の腐食、焼損、劣化、断線などを修復する、 基板修理サービス『ヨミガエル』を提供しています。 メーカーサポート終了品、海外メーカー製品、回路図や仕様書がない製品にも対応。 設備の故障や部品の生産...
メーカー・取り扱い企業: 千代田交易株式会社
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特殊イオン源を使用した装置で高耐久性ICFを成膜させ、高面圧下で使用し…
【主な特徴】 ○高面圧下で使用しても剥離せず、高寿命化の新機能被膜。 ○特殊イオン源を使用したプラズマCVD装置で高耐久性ICFを成膜させる。 ○真空とプラズマを利用し、様々な材料に薄膜や改質層を成形し、 付加価値を高める装置を製造。 ○ユーザーのニーズに合う多種多様な真空装置のカスタマイズ製作 を行っている。 ○適用材質 →超硬合...
メーカー・取り扱い企業: ナノテック株式会社
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高機能膜 ICF 表面粗さを制御し、超鏡面ICFコーティングを実現!
真空中において特殊なイオン源により最適条件設計を行うことで、表面粗さを制御し、超鏡面ICFコーティングを実現しました。超鏡面ICFの用途としては、非球面レンズ金型や超微細加工ツール、精密金型などがあります。これらの部材では、非常に高い表面粗さの精度を要求され、膜抜けやドロップレットによる成形品への影響を極力抑えなければなりません。超鏡面ICFは、これらのニーズに対応して開発されたものです。詳しくはお問い...
メーカー・取り扱い企業: ナノテック株式会社
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DLC膜の様々な改質を可能としたDLCコーティング装置!超精密金型や高…
.7×10-4Pa以下まで30分以内 ○基板加熱機構:オプション(シースヒーター、ランプヒーター等) ○基板バイアス電圧:MAX 3.0kV ○装置制御:レシピ画面設定による完全自動運転 ○真空系:ターボ分子ポンプ + ロータリーポンプ ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: ナノテック株式会社
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中空陰極内部よりアルゴンガスを放出、不活性ガスをイオン化・放電を形成
よる成膜エリアの拡大 →均一性向上を実現 ○両扉オープン及び治具下置設計による作業性向上 ○ビーム収束コイルによる高エネルギー密度プラズマビームの発生 【NTH-1000装置仕様】 ○真空槽(mm):φ1000×800H ○有効エリア: φ200×400×8式 ○基板ホルダー:自公転式(下置型) ○作動ガス:Ar・N2・C2H2 ○蒸発イオン源:HCDガン ○到達圧力:5×...
メーカー・取り扱い企業: ナノテック株式会社
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