高圧窒素富化ガス発生装置『HND-RA』※作業事例も紹介中

PR【デモ機相談可能】100V電源で使用可。持ち運びやすくボンベ交換も不要…

『HND-RA』は、100V電源で使える高圧窒素富化ガス発生装置です。 ボンベを用いずに露点-40℃以下、濃度85％の窒素ガスを吐出・供給でき、 煩わしいボンベの搬送・交換作業が不要に。現場の省力化が可能です。 3種類の吐出圧力範囲に対応し、ロー付け部に負荷をかけない配管気密試験や スケールの少ないパージ作業など、様々な用途に使用できます。 【特長】 ■100V電源で使用可能 ■0～1.0、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サタコ

真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

真空技術とFAの要素技術を融合！設計・製造からサポートまで対応

重ね合わせ装置やシール剤塗布装置と窒素置換容器、特型GBの設計・制作

半導体・各種産業向けの蒸着装置、スパッタ装置、ＣＶＤ装置等の成膜装置の設計・製作を行っております。装置完成後の現地搬入・立ち上げ、稼動後の保守を含めたトータルでのサービスが可能な体制となっております。排気セット等のユニット単位での設計製作も行っております。また、各種実験補助設備の設計や真空設計の応用に豊富な経験があり、仕様検討の段階よりお手伝いさせていただきます。...【製品】 蒸着膜形成装置 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コスモ・サイエンス