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蒸着,スパッタでは困難な 高曲率レンズ,ボールレンズへの成膜に最適
光学薄膜プロセスでは一般的な蒸着,スパッタとは異なるALD(Atomic Layer Deposition)の手法を用いることにより、これまで困難とされてきたボールレンズや高曲率レンズなどの基板に対し、 付き廻りに優れかつ高品質な薄膜の形成が可能となっております。 【概要】 ○φ10 インチ基板 最大50枚一括処理(25枚×2軸) ※基板形状や条件により異なります。 ○基板回転機...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空
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