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脱炭素を目指す『出光カーボンオフセットfuel(ICOF)』
PR燃料油を使用しながらCO2排出量のオフセットが可能!カーボンクレジット…
出光カーボンオフセットfuel(ICOF)は、 ガソリン、灯油、軽油、A重油にカーボンクレジットを付与した商品です。 普段通り燃料油を使用しながら、CO2排出量のオフセットが可能。 初期投資なしでスピーディーに導入でき、既存設備の変更も要りません。 オフセットの割合を4つのプランから選択できます。 【特長】 ■プラン(100%・50%・10%オフセット)は注文ごとに選択可能 ■J-クレジットを...
メーカー・取り扱い企業: 出光リテール販売株式会社
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ISCC Plus 認証! 100%バイオマス素材 イソソルビド
PRイソソルビド (Isosorbide) はトウモロコシなどの食物由来の…
(三洋貿易 (株) ライフサイエンス事業部取り扱い製品です。お問合せは03-3518-1086まで) 剛直な脂環式ジオール構造を有し、既存の石油由来原料の代替として使用可能です。ポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、エポキシなどのポリマー原料の代替として使用することで、植物由来原料比率の向上のみならず物性向上にも貢献します。 ■韓国のサムヤングループ 子会社のサムヤンイノケム社製イ...
メーカー・取り扱い企業: 三洋貿易株式会社 ライフサイエンス事業部・ 産業資材事業部
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Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…
『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 VSS-300
300mm角対応モデル。ローダー・アンローダーと連携可能で量産にも。 …
mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):150K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):90K/min.(T=450℃>200℃)、60K/min.(T=200℃>100℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■窒素ガス:0.35~0.4MPa(3.5~4bar) ■コントローラ:7インチタッチパネルコントローラ(SIMATIC製 TP-...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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超省スペース、100[V]電源対応のセミオートFCボンダー
『CB-200』は、少量生産及び多品種生産に適応します。 汎用性の高い装置コンセプトにより、各種パッケージ(※1)、各種接合プロセス(※2)に対応しています。 ※1 MEMS、5G、データ通信、ミリ波センサ、フォトニクス、 AR分野など ※2 ACF、ACP、NCF、NCP、超音波など...■対応プロセス 1.熱圧着 2.超音波接合 ■省スペース設計 本体:702...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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必要な機能だけを気軽に使えるエントリーモデル(ユニテンプジャパン株式会…
herm 2416 プロファイルプログラム登録数 1プログラム プログラムステップ数 最大:16ステップ プロセスデータ保存先 USBメモリ 加熱プレート冷却方式 空冷 電源仕様 単相100V...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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実装前にチップの全数外観検査を行うことで後工程のロス低減&歩留まり向上…
■イントレイ検査でベアチップへの接触をミニマム化 ■画像情報の高次元統計解析による過検出低減ツール(オプション) <モデルラインナップ> ■CI200i:表面+裏面検査モデル ■CI100i:表面検査モデル ...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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±1μm(3σ)の高精度実装 が可能なフリップチップボンダです。 …
■仕様 基板寸法 5~100 mm x 5~235 mm チップサイズ □1~20 mm 搭載精度 XYZ ±1μm(3σ) ...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-160-S
フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…
合わせ、 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さまざま試作開発に 対応する機能と性能を一台に凝縮しました。 【特長】 ■毎分100℃のスピード昇温、さらに水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応(オプションで500℃) ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼ...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RSO-200
金属の焼結にも使える最大昇温速度600K/min.の超高速昇温対応モデ…
mウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):600K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):200K/min.(T=650℃>400℃)、60K/min.(T=200℃>100℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■プロセスガス供給ライン:マスフローコントローラx1(最大流量:5nlm) ■コントローラ:7インチタッチパネルコントローラ(SI...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-110-S
フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…
mx40mm ■最大到達温度:400℃ ■加熱方式:クロス配列IRヒーター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1%以内(対象物:Φ100mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):120K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):180K/min.(T=450℃>200℃) ■チャンバー真空耐久度:0....
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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ギ酸・水素還元対応真空はんだリフロー装置 RSS-3×210-S
対象物が大きい場合や同時作成にも適した、シリーズ最大の加熱プレートサイ…
【仕様(抜粋)】 ■装置サイズ(WxDxH):820x630x315mm ■装置重量:約100kg ■有効対象物サイズ(WxDxH):620mmx200mmx50mm ■最大到達温度:300℃ ■加熱方式:クロス配列IRヒーター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…
『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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