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    小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】

    PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置!シャッタを具備しているので安定…

    『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置(デポアップ)です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系:<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化:W500×D39...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

  • 一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末 製品画像

    一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末

    PRサブミクロンから塊状まで幅広くカスタマイズ可能なSiOパウダー。LiB…

    当社は、リチウムイオン電池(LiB)負極材料などとして活用可能な 『一酸化ケイ素(SiO)』を提供しています。 粉末状(1~100μm)、粒状(1~5mm)、塊状(50~200mm)に対応し、 サブミクロンレベルまでカスタマイズ可能です。 1μmの粉末でSiO純度99.8%、5μmの粉末でSiO純度99.9%などの製品事例があります。 【特長】 ■製造方法:結晶化学気相成長法 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • Neousys社製エッジAIプラットフォーム 製品画像

    Neousys社製エッジAIプラットフォーム

    動作周囲温度60℃において、負荷率100%!自律型ロボット、医用画像分…

    フォームの優位性は、特許 取得済み冷却システムによって「RTX 30シリーズ」の性能を最大限に引き出し、 活用することができることです。 【特長】 ■動作周囲温度60℃において、負荷率100% ■エッジAI GPUは産業用途設計で、過酷な動作環境においても広域温度範囲、  広域DC電源入力での動作が可能 ■過酷な環境下でのエッジAIコンピューティングのミッションクリティカルな ...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社理経

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