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PRインテル標準品!Ethernet増設されたいニーズへの対応が可能
当社で取り扱う、「Intel 10Gb Ethernet Network Adapter」を ご紹介いたします。 特に需要の多い「X710-T2L」や「X550-T2」は即納可能。また、 他インテルが提供している1GbEから100GbE品まで取り扱い可能です。 ワークステーションやサーバー等ご使用のユーザー様やそれら装置を 組み立てられているベンダー様に適しております。 【...
メーカー・取り扱い企業: 菱洋エレクトロ株式会社
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PR高い摩耗性がダウンタイムの低減を実現!ゴム硬度が30と60の2重構造を…
当社で取り扱う、帯電防止サクションカップ『BX ESDシリーズ』を ご紹介します。 ゴム硬度が30と60の2重構造を用意可能。ゴム硬度60バージョンは、 マークが残らない特性を持っています。ベローズ(蛇腹)は、1段と 2段仕様から選択可能です。 ESD DURAFLEX材料は、表面抵抗値が106から109Ωの範囲であり、 静電気の制御された放電を保証します。 【特長】 ...
メーカー・取り扱い企業: ピアブ・ジャパン株式会社
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2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。
株式会社エナテックのCZウェーハ 成膜加工は、膜種により2インチから450mmウェーハへの成膜が可能です。 酸化膜系:熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社
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3インチ~12インチまで少量対応が可能です。 仕様により高抵抗基板・…
CZシリコンを使用したSOI以外にも、基板・デバイス層とも高抵抗FZシリコンを使用したSOIウェーハも対応可能です。 直径:3インチ~12インチ SOI層:2-200um程度(抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能) SiO2(酸化膜)層:0.5-2um程度(0.1-10umも対応可能) 支持基板:300-725um程度(直径によりま...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社
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1インチ以下~450mmまで提供が可能です。各種成膜加工、FZウェーハ…
ーハを取り扱っております。 〇SOIウェーハ CZ・FZウェーハを使用した新規作成での対応も可能です。 新規作成の場合,最小枚数は10枚程度からのご提供になります。 直径:3inch-12inch SOI層:2-200um程度(抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能) SiO2(酸化膜)層:50nm-2um程度(0.1-10umも対応可能) 支持基板:300-725um程度(抵抗1万...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社
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汚染物質の少ないFZ法で製造された高品質・高純度・高抵抗のFZシリコン…
おります。 詳しくはお問い合わせください。 ★Prime Grade FZ ingot(即納可能) 納品時にはメーカーのCofCをおつけします。 仕様 方位: (1-1-1) ± 2 deg. 直径(mm) : 101,60 ± 0,20 長さ(mm) : 200 - 400 第一オリフラ(mm) : 30,5 - 34,5 (1-10) +/- 1 Deg. 第二オリ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社
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直径30mm程度から8インチ、高ライフタイム、1万オームを超えるような…
Z ingot(即納可能) 納品時には実測値の入ったメーカーのCofCをおつけします。 ウェーハへの加工も可能です。 仕様) 仕上げ: as ground 方位: (1-1-1) ± 2 deg. 直径(mm) : 101,60 ± 0,20 Ingot length (mm) : 200 - 400 第一OF(mm) : 30,5 - 34,5 (1-10) +/- 1 D...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社
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小ロットからの対応可能です。特殊なエピ、多層エピなどにも出来るだけ対応…
「エピウェーハ」 1. ディスクリートデバイス向けや IC powerデバイス向けに使用されております。 *直径: 100-200 mm *Epi層ドーパント: Boron 、Phosphorous *Epi層抵抗値: 0.01-500 Ω/cm *Epi厚: 1-150 um *Stacking fault: 1...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社
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