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ARO社 ダイアフラムポンプ FDA準拠(サニタリー)ポンプ
PR【医薬品・食品業界に!】 衛生性(サニタリー)が重要視される現場で活…
信頼性と効率を追求したSUS316L製のARO社ダイアフラムポンプは、 衛生性が重要視される医薬品・食品業界で安心してご利用いただけます。 クイックノックダウン(QKD)クランプシステムを特徴としており、 クリーニング、保守メンテナンスが容易で、高い信頼性と長い製品寿命を提供します。 最小限の時間で洗浄やメンテナンスが可能となり、作業時間の短縮にも貢献します。 【用途例】 ...
メーカー・取り扱い企業: タイヨーインタナショナル株式会社
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切削液の腐敗防止でコスト削減!高pHアルカリイオン水生成装置
PR切削液にアルカリイオン水を混ぜるだけで【切削液の腐敗防止】【加工効率を…
「高pHアルカリイオン水生成装置」は廃液なしで、pH13.2の高pHアルカリイオン水を1日80L~240L生成することができる装置です。 高pHアルカリイオン水は【高い浸透性】【冷却性】【水の腐敗防止効果】【洗浄力】といった特長があり、 切削・研削時にクーラント(切削油)に混ぜるだけで加工効率が向上します。 また、高い冷却効果によって加工時に発生する摩擦熱が抑えられるため、工具寿命の延長...
メーカー・取り扱い企業: クール・テック株式会社
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ノンフロンペルチェチラー 小型、軽量、低騒音、低振動、省エネ!
省エネ効果でカーボンニュートラル、カーボンプライシング対策! 温室効果…
信頼性の高い高性能ペルチェモジュールとSolidStateCoolingSystems社が開発した独自の特許技術を持つ熱交換プレートの組み合わせにより、非常にコンパクトながら高い冷却能力を発揮するチラーです。フロンガスを一切使用しておりませんので、GWP規制による使用制限やフロン管理のための点検作業が不要です。また、冷凍機を搭載していないことから、振動や騒音も少なく、摩耗や劣化による不具合を軽...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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プラズマエッチャーチラー ThermoRack1201/1801
半導体製造工程のプラズマエッチングに好適!消費電力最大93%削減!騒音…
『ThermoRack1201/1801』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持した...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエ…
『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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レーザー装置に最適!ペルチェチラー『ThermoRack800』
レーザーの温度制御に最適!
ThermoRack800は、高い信頼性がありレーザーアプリケーションに 最適です。 冷却能力700~900WのThermoRack800は室温付近でさえも±0.05℃の温度精度を維持します。駆動部はわずか2か所なのでささやきのような静粛性・無振動を実現して、先進的光学・レーザーのアプリケーションにて要求される温度コントロールに対応できます。コアとなる電子温調モジュールは200,000時...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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消費電力大幅削減!ペルチェチラー『ThermoRack800』
レーザーの温度制御に最適!
ThermoRack800は、高い信頼性がありレーザーアプリケーションに 最適です。 冷却能力700~900WのThermoRack800は室温付近でさえも±0.05℃の温度精度を維持します。駆動部はわずか2か所なのでささやきのような静粛性・無振動を実現して、先進的光学・レーザーのアプリケーションにて要求される温度コントロールに対応できます。コアとなる電子温調モジュールは200,000時...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音…
『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働し...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエ…
『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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消費電力大幅削減!ペルチェチラー『ThermoRack1801』
半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音…
『ThermoRack1801』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働し...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音…
『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働し...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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消費電力大幅削減!ペルチェチラー『ThermoRack1201』
半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音…
『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働し...
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消費電力大幅削減!ペルチェチラー 『NIKOLA3K/5K』
フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエ…
『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエ…
『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに...
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フロンガス不使用のペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエッチングに…
『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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