協働ロボット パレタイザー 向け (LC3IC Elevate)

PRLC3 IC は 3 段式電動昇降装置で、ドライバー内蔵。協働ロボット…

LC3 IC は 3 段式電動昇降装置で、ドライバーが内蔵されているため、電動昇降装置のオンボード制御や診断が簡単です。LC3 IC は、産業用通信インタフェースにより、協働ロボットパレタイザーや高さ調整可能なコンベアベルトなどの用途など、産業人間工学に好適な電動昇降装置となっています。 LC3 IC は ELEVATEと呼ばれるモデルで、特に特定のインターフェース、ソフトウェアドライバー、...

メーカー・取り扱い企業： リナック株式会社 日本支社

屋外対応顔認証入退室管理システム『BioStation3』

PRSupremaの新フラッグシップ端末BioStation3

Supremaの最新機種で最もコンパクトにリリースした顔認証端末BioStation3は電源投入してからカードリーダ並みの約40秒で起動します。 これにより瞬停や計画停電があってもすぐに運用を再開します。...IK06により様々な環境に設置可能にFaceStation F2のIP65に加えてIK06の高耐久を纏いました。 スリムでコンパクトなデザイン FaceStation F2と比較しサイズが...

メーカー・取り扱い企業： ステルス・ネットワークス株式会社

ベトナムでの製缶品製作　※品質は日本基準でもコスト削減に寄与！

ニョンチャック第3工業団地のSUS製缶品製作を中心とした日系企業で、日…

。 ベトナムでの加工技術も親会社と同等です。　 また、ベトナム法人はISO14000とASME U Stampを有しています。 日本向けのみならず、ベトナムよりASEAN諸国およびその他第3国にもコンテナ船で迅速に輸送できます。 幅広および背高製品も運賃は高くなりますが、輸送可能です。 日本向けにつきましては、通関後の引き渡しとなりますので、国内取引と手間はかわりません。 ...

メーカー・取り扱い企業： イーテクノ株式会社 本社

【納入事例】エチレンオキサイド・プロピレンオキサイド除去塔

715,000ppmより40ppm以下に除去！希硫酸水溶液にてEG、P…

ピレンオキサイド除去塔の 納入事例をご紹介します。 ガス温度は60℃で、反応熱による収斂温度は72.1℃。 希硫酸水溶液にてEG、PGに反応変換させます。 処理ガス量は914.2Nm3/h、設計除去率は715,000ppmより 40ppm以下に除去します。 【事例】 ■納入先業種：樹脂 ■設計・設置機器：エチレンオキサイド・プロピレンオキサイド除去塔 ■処理ガス量：...

メーカー・取り扱い企業： イーテクノ株式会社 本社

ベンチュリースクラバー「E720シリーズ」

大口径スプレーノズル採用で高い集塵効率と補給水低減を実現！

特長】 ■FRPを構造材としているため、軽くて強く、しかも優れた耐蝕性を発揮 ■処理風量に応じてサイズが規格化されており、設計及び製作納期の短縮が可能 ■ベンチュリー管とコレクターとの組合せに3タイプ（HV型、H型、V型）を用意している為、自由なレイアウトが可能。 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。...

メーカー・取り扱い企業： イーテクノ株式会社 本社

【環境装置納入事例】塩素ガス中の水分除去塔 3塔直列

入口で98％、出口では60％の硫酸濃度！濃硫酸で塩素ガス中の水分を吸収…

イーテクノが行った、塩素ガス中の水分除去塔 3塔直列を納入した 事例をご紹介します。 濃硫酸で塩素ガス中の水分を吸収除去。処理ガス量は塩素ガス 1300Nm3/hです。 3塔直列で、20℃水分飽和より30wtppmまで水分を除去...

メーカー・取り扱い企業： イーテクノ株式会社 本社

【環境装置納入事例】塩酸ガス除去塔

水による吸収はMax90℃！塩酸ガス5ppm以下の出口濃度となった納入…

イーテクノが行った、製鉄業へ塩酸ガス除去塔を納入した事例を ご紹介します。 水による吸収はMax90℃。処理ガス量は6750Nm3/h、除去対象ガス・濃度は、 HCI微量、CI2ガス微量、粉塵、Fe2O3です。 出口濃度は、塩酸ガス5ppm以下となり、塩素ガス、粉塵共に成り行きです。 【事例】 ■納入先業種：製...

メーカー・取り扱い企業： イーテクノ株式会社 本社

【環境装置納入事例】予冷塔＋ベンチュリ―スクラバー(1)

処理ガス量は100Nm3！カーボン微粒子を除去対象物質とした環境装置納…

イーテクノが行った、予冷塔＋ベンチュリ―スクラバーの納入事例をご紹介します。 処理ガス量は100Nm3で、温度は常時100-120℃、最大160℃。 ガス冷却設計値は、粒子径分布が提示されたので、そのデータを用いて 50℃から35℃以下で設計しました。 入口カーボン微粒子(ばいしん)濃度3...

メーカー・取り扱い企業： イーテクノ株式会社 本社

【環境装置納入事例】予冷塔＋ベンチュリ―スクラバー(2)

処理ガス量は4568Nm3／h！気液接触は水(循環＋補給)にて、冷却、…

イーテクノが行った、予冷塔＋ベンチュリ―スクラバーの納入事例を ご紹介します。 処理ガス量は4568Nm3／h、温度は60.4℃、白色顔料粉塵を除去対象物質とし、 ばいじん0.2g／Nm3→0.01g／Nm3以下となりました。 気液接触は水(循環＋補給)にて、冷却、ヒューム除去。 循環液中の粒...

メーカー・取り扱い企業： イーテクノ株式会社 本社

【環境装置納入事例】高濃度塩素ガス・青酸ガス除去塔

出口濃度は青酸ガスで2ppm以下に！高濃度塩素ガス・青酸ガス除去塔の納…

イーテクノが行った、高濃度塩素ガス・青酸ガス除去塔の納入事例を ご紹介します。 塩素ガス、青酸ガスを除去対象ガスとし、処理ガス量はMax.3600Nm3/hです。 入口濃度は、塩素ガスがMax.2vol％、青酸ガスが15vol％で、 出口濃度では、塩素ガスが0.5ppm、青酸ガスが2ppm以下となりました。 【事例】 ■...

メーカー・取り扱い企業： イーテクノ株式会社 本社

【環境装置納入事例】粉塵除去塔

処理ガス量70Nm3/hx 2系列！フィルター手前での粗取りが80％の…

含み、粒子径は1μm～40μmですが、 10μm以上のものが85％以上となります。 【事例】 ■納入先業種：化学 ■設計・設置機器：粉塵除去塔　EHCUシリーズ ■処理ガス量：70Nm3/hx 2系列 ■除去対象物質：粉塵、酸性ガスを含む ■ガス温度：Max.80℃ ■粒子径：1μm～40μm(10μm以上のものが85％以上) ■設計除去率：フィルター手前での粗取り 80％...

メーカー・取り扱い企業： イーテクノ株式会社 本社

【環境装置納入事例】PO除去装置

充填高さは3.7m！酸化プロピレンを除去対象物質とした環境装置納入事例…

イーテクノが行った、PO除去装置の納入事例をご紹介します。 処理ガス量は25Nm3/min、ガス温度は70℃、酸化プロピレンを 除去対象物質としています。 充填高さは3.7mで、入口濃度は43,693ppm、出口濃度は 2,185ppmとなっています。 【事例】 ...

メーカー・取り扱い企業： イーテクノ株式会社 本社

【環境装置納入事例】ゴム粉塵除去塔

除去率は90％以上！ゴム微小粉塵を除去対象とした環境装置納入事例をご紹…

イーテクノが行った、ゴム粉塵除去塔を納入した事例をご紹介します。 処理ガス量は100,800Nm3/h、除去対象はゴム微小粉塵。 充填塔はID4515×H7000です。 水による洗浄で、除去率は90％以上になります。 【事例】 ■納入先業種：ゴム製造 ■設計・設置機器：ゴム粉塵...

メーカー・取り扱い企業： イーテクノ株式会社 本社

【環境装置納入事例】酸性ガス吸収塔

HCIガスとして入口濃度100ppmを出口濃度10ppn以下に除去！酸…

イーテクノが行った、酸性ガス吸収塔の納入事例をご紹介します。 処理ガス量は100m3/h、除去対象ガスはアセトンを含む酸性ガス。 界面でのアセトン濃度アップを懸念して内面150mm幅には、 FRP3mmを増し張りしました。 また、苛性カリ水溶液を吸収液とし、ガス温度は30...

メーカー・取り扱い企業： イーテクノ株式会社 本社