2D/3DCAD資産を活用したシステム開発

PR文字情報の抽出、自動作図など、「できない」と諦めていたご要望を実現

当社では『2D/3DCAD資産を活用したシステム開発』を行っております。 CADのカスタマイズ、独自システム構築、OEMなど幅広く対応可能。 市販CADソフトをベースにお客様専用のシステムを開発し、 「できない」と諦めていたご要望を実現いたします。 【市販CADソフトを活用した専用ソフト開発のメリット】 ■安定品質 ■柔軟なライセンス ■フルカスタマイズ ※「PDFダウ...

メーカー・取り扱い企業： アンドール株式会社 ITプラットフォーム営業部　

【部品表管理導入事例】京セラ株式会社　様

PR工場内に散在していた製造関連情報を一元化！グローバルでのコンカレントエ…

卓越した技術力を有し、日本を代表する総合メーカーとして知られる京セラ様。 グループ従業員数は8万人を超え、連結売上高は2兆円以上。その事業領域は幅広く、ファインセラミックスをはじめ、半導体部品や電子部品、ケミカル材料、車載カメラやエネルギーシステムなどをグローバルに展開されています。 そんな京セラ様の技術力を支える拠点の1つが鹿児島川内工場です。 同拠点で進められているコンカレントエ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立ソリューションズ西日本

セラミックス３Dプリンタを利用するメリット

開発期間の短縮・コストメリットに！複雑形状組付品の一体化や中空化、肉抜…

セラミックス3Dプリントって本当に良いのか分からない…、検討してみたい…という方へ！お客様のニーズに応えることができる「3D出力サービス」のメリットのご紹介です！ 【メリット】 ■金型不要！モデリングデータで造形可能なため、開発期間や製作時間の短縮に ■実製品の製作も！データやパソコンでは気付けないデザイン・設計ミス防止に ■製造後すぐ手に取れるため、最終形でのイメージ・アイデア出しが...

メーカー・取り扱い企業： 新東Vセラックス株式会社

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

CAD/CAM/SIMULを用い作業効率と高い品質を追求してます

【削る前が決め手】仕様確認、工法の提案、工程及び治具設計、工具の選定、…

業性を考慮した組立製品の部品設計・加工 ・お客様の構想を具体化したうえでの部品設計加工 ・鋳物部品の起型前の試作作成、本型へのフィードバック提案 ・ポンチ絵を元にした詳細設計、2D画面・3Dデータ作成 ・現物から寸法測定したうえでの2D図面・3Dデータ作成 ソフト一覧 CAD：Creo Elements Direct Modeling CAM：GO2cam 加工シュミレーター...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三栄精機工業

レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

『DWL 66＋』は、研究開発用途および小ロット生産やマスク作成やマスクレス露光に適した、高解像度のレーザー直接描画装置です。 マイクロストラクチャの製作と分析に必要な機能を、標準システムとして 装備。 処理能力が高く、また、対応範囲も広いため、MEMSやマイクロ光学など マイクロストラクチャ製作が必要なアプリケーションの研究開発に貢献します。 【特長】 ■マスクレス露光や...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

ソフトエッチング装置【nanoETCH】＜30W低出力

＜30W（制御精度10mW）低出力RFエッチングによる、精細でダメー…

【nanoETCH（ナノエッチ）】Model. ETCH5A ＜30W（制御精度10mA）低出力RFエッチングによる、精細でダメージレスなエッチング処理を実現。 2010年グラフェン発見でノーベル賞受賞者率いる マンチェスター大学グラフェン研究グループとの共同開発製品。 ...【特徴・主なアプリケーション】 • 2D（遷移金属カルゴゲナイド, 材料転写後のグラフェン剥離）：表面改質...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタカソード x 3：自動連続多層膜, 2源同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：基板回転・昇降、基板加熱（Max500℃）、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ3源+3系統（MFC制御）、RF/DC ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社