シーリング装置『HRD155.2-SGi-14/4-16.5』

PRケーブルの壁貫通部の強力シーリングで水・土砂の流入を防止。幅広い外径に…

メカニカルシーリング装置『HRD155.2-SGi-14/4-16.5』は、 埋設ケーブルの円形壁貫通部の止水・土砂流入防止ができる製品です。 外径4～16.5mmのケーブルにアジャストできる機構を搭載しており、 14カ所あるケーブル貫通孔から任意に選んでケーブルを通すことが可能。 使わない貫通孔もプラグの締め付けにより優れた水密性を確保でき、 地下水位が高い場所での使用にも好適...

メーカー・取り扱い企業： 日本リンクシール株式会社

単結晶粒（真空蒸着材／錠剤）

PRLiF粒など、各種結晶粒（真空蒸着材）取り揃えております。KBrヘキカ…

当社は、光学結晶メーカーならではの豊富な品揃えとスピーディーな対応で、 多種・少量の研究・試作用製品から量産品まで、ご要望にお応えします。 真空蒸着材 単結晶粒のサイズは2-5mm。記載されたサイズ以外も対応可能です。 また「KBrヘキカイカット品」は、"KB4SQ-1"(4x4x1 mm)や"KB7SQ-1-2"(7x7x1-2 mm)を ラインアップしております。 【真空蒸着材　ラインア...

メーカー・取り扱い企業： ピアーオプティックス株式会社

粉末用イオン注入装置

IonPOWDERによる粉体の革新的な表面処理。 粉体へのイオン注入…

特徴 ･多種のガスが使用可能（Ar, He, N2, O2, SiH4, 混合ガス） ･装置はレシピで動作可能 ･PVD(physical vapor deposition)機構も、増設できます。 プロセスの利点 低温表面処理：元の材料特性が保持されます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

PlasmaMAX Hollow Cathode プラズマCVD

最高品質を保ちつつ、基板幅と成膜速度を最大化することで、大量生産プロセ…

・　動的（ダイナミック）成膜レート（DDR）は従来型PDVプロセスの最大10倍。 ・　高品質で機械的耐性のある薄膜製造。 ・　PECVDコーティングとして業界で最大級の基板幅である4メートルまで拡張できることを実証。 ・　広範囲PECVD成膜アプリケーションのための高度な均一性コントロール。 ・　従来式の資源消費型の湿式プロセスにかわる、環境上持続可能な乾式プロセス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー