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単相変圧器/三相複巻変圧器・トランス/逆V/スコット※寸法表あり
PR【寸法表と参照図面】完全オーダーメイドの変圧器製造により”1KVA~2…
完全オーダーメイドで、お客様のご要望にお応えします。 社内一貫生産により、短納期・高品質を実現。 【特長】 ■完全オーダーメイド ⇒10KVA、20KVA、30KVA、50KVA、75KVA、100KVAもお任せください! ※もちろん、1KVA~200KVAまで対応可能! ■社内一貫生産により、短納期・高品質を実現 ※PDFにて寸法表と参照図面を記載しております。 ※詳しく...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社細田電機
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PR高速かつ正確なガラス微細加工が可能。加工時の応力を抑えて、マイクロクラ…
『LPKF Vitrion M 5000 Gen2』は、独自に開発した「LIDEプロセス」を採用し、±5μm以下の高精度でガラス微細加工が可能なレーザーシステムです。 加工時の応力を最小限に抑え、チッピングやマイクロクラックの発生を防止。 アドバンストパッケージングで標準使用される150×150mmから 510×515mmまでの大型パネルに対応し、基板のサイズや 形状に合わせて柔軟に対...
メーカー・取り扱い企業: LPKF Laser&Electronics株式会社
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Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…
『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…
『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、 高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本の...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…
『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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小型レトルト釜『HLM-36EF』 ※FOOMA 2024に出展
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アルミ・銅ケーブル用圧縮工具不要 スクリューコネクター
銅とアルミも異径接続も標準品で対応、汎用工具でボルトを締付ける…
株式会社北海道ダイエィテック 本社 -
多機能振動計測・分析ソフト『SVRシステム Fシリーズ』
1ch~128chの振動計測に対応。異常振動の監視や、振動モー…
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新型:ソフトスタータ α-Beat plusアルファビートプラス
【納期10日】再突入電流が出ない始動器。インバーターのバックア…
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汎用性が高く機能性に優れた粉粒体供給機サークルフィーダを「標準…
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各ランプの光量制御で待機電力削減に貢献!『電子点灯UV照射装置』
【省エネ・電力削減】 各ランプ毎に光量調節が可能で10Aタイプ…
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セントラル科学株式会社 -
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株式会社リョウセイ -
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伊藤工機株式会社 本社