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PRSi純度2N~4N、粒度分布50nm~3mmに対応。ニーズに合わせカス…
当社は、用途に応じた純度や粒度分布のカスタマイズに対応可能な 『シリコン(Si)粉末』を提供しています。 Si純度は2N(Si>99.0%)、3N(Si>99.9%)、4N(Si>99.99%)、 粒度分布は微粉末(100nm~)、粉末(1.0μm~)、粒体(1~3mm)に対応。 プラズマアーク合成により50nmまでの微粉化を実現した『超微粉末』もあり、 超微粉末はSi純度2Nに...
メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社
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PRサブミクロンから塊状まで幅広くカスタマイズ可能なSiOパウダー。LiB…
当社は、リチウムイオン電池(LiB)負極材料などとして活用可能な 『一酸化ケイ素(SiO)』を提供しています。 粉末状(1~100μm)、粒状(1~5mm)、塊状(50~200mm)に対応し、 サブミクロンレベルまでカスタマイズ可能です。 1μmの粉末でSiO純度99.8%、5μmの粉末でSiO純度99.9%などの製品事例があります。 【特長】 ■製造方法:結晶化学気相成長法 ...
メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社
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【精密加工・精密金型事例】マイクロインパクト方式刻印機による刻印
トレーサビリティに対応!品質管理・生産管理の効率化を目的として管理番号…
当社の『マイクロインパクト方式刻印機』の製作事例についてご紹介です。 マイクロインパクト方式には、スタイラス(針)の押し出しに空気式と 電磁式の2種類の方式が用いられます。 空気式はエアーの不均一によるドット抜けの可能性がありますが、 電磁式ではその心配が無く均一なドットを得ることができます。 当社では電磁式の刻印機を採用し、安定した品質で刻印することが可能です。 【事...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社EXCERA
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日酸TANAKA株式会社 産業機器事業部 -
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日本カーネルシステム株式会社 本社