シリコン（Si）粉末

PRSi純度2N～4N、粒度分布50nm～3mmに対応。ニーズに合わせカス…

当社は、用途に応じた純度や粒度分布のカスタマイズに対応可能な 『シリコン（Si）粉末』を提供しています。 Si純度は2N（Si＞99.0％）、3N（Si＞99.9％）、4N（Si＞99.99％）、 粒度分布は微粉末（100nm～）、粉末（1.0μm～）、粒体（1～3mm）に対応。 プラズマアーク合成により50nmまでの微粉化を実現した『超微粉末』もあり、 超微粉末はSi純度2Nに...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

一酸化ケイ素（SiO）塊・粉末

PRサブミクロンから塊状まで幅広くカスタマイズ可能なSiOパウダー。LiB…

当社は、リチウムイオン電池（LiB）負極材料などとして活用可能な 『一酸化ケイ素（SiO）』を提供しています。 粉末状（1～100μm）、粒状（1～5mm）、塊状（50～200mm）に対応し、 サブミクロンレベルまでカスタマイズ可能です。 1μmの粉末でSiO純度99.8％、5μmの粉末でSiO純度99.9％などの製品事例があります。 【特長】 ■製造方法：結晶化学気相成長法 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

【精密加工・精密金型事例】マイクロインパクト方式刻印機による刻印

トレーサビリティに対応！品質管理・生産管理の効率化を目的として管理番号…

当社の『マイクロインパクト方式刻印機』の製作事例についてご紹介です。 マイクロインパクト方式には、スタイラス（針）の押し出しに空気式と 電磁式の2種類の方式が用いられます。 空気式はエアーの不均一によるドット抜けの可能性がありますが、 電磁式ではその心配が無く均一なドットを得ることができます。 当社では電磁式の刻印機を採用し、安定した品質で刻印することが可能です。 【事...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社EXCERA