ALD装置（原子層堆積装置）『P-300B』

高品質のALD膜を作り出す！MEMS機器の生産や3Dオブジェクトの成膜…

　・ウェハなし基板(特注ホルダー) 　・高アスペクト比サンプル(2500：1～) ■処理温度：50～500℃ ■標準処理 　・最小1桁秒までのサイクルタイムでバッチ処理が可能 　・AI2O3、SiO2、Ta2O5、HFO2、ZnO、TiO2、ZrO2、AIN、TiN およびメタル 　・<1% 1σバッチ内不均一性 （Al2O3、WIW、WTW、B2B、49点、5mm EE） ■...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社