BN | イプロスものづくり

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窒化ホウ素(BN)

PR焼結体と粉末、豊富なグレードを用意！短納期、低価格で安定供給します。新…

三和マテリアルの『窒化ホウ素(BN)』は、お客様のご要望(使用条件、形状等)に応じて、高品質・短納期・低価格・安定供給でお届けいたします。耐熱性・離型性・絶縁性に優れる「焼結体」と「粉末」をラインアップ。豊富な実績と信頼のある“窒化物セラミックスのプロ集団”である当社にぜひご相談ください。【特長】 ■熱的特性：高熱伝導率、低熱膨張係数で高温での使用が可能 ■電気...
メーカー・取り扱い企業：三和マテリアル株式会社本社
【カタログ進呈！】高性能オシロスコープ　PicoScope

PR先端デバイスの開発など、優れた信号解析性能が要求されるアプリケーション…

高性能オシロスコープPicoScope 6428E-Dは、既存のPicoScope 6000Eシリーズの性能を拡張したもの。高エネルギー物理学、LIDAR、VISAR、分光分析、加速器、および他の高速信号解析に取り組む科学者や研究者にとって理想的なツールです。【特徴】・周波数帯域３ GHｚ・最高サンプリング速度 10 GS/s ・分解能可変8－12ビット・メモリ４GS ・アナロ...

メーカー・取り扱い企業： Pico Technology Ltd.
【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃

CVD, PVD（蒸着, スパッタ, PLD, ALD等）均熱性・再現…

ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。【ラインナップ】 ◎ SH-IN（インコネルプレート）：φ1.0〜φ6.1inch...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
精密平面ラップ・精密平面ポリッシ盤製品カタログ

工作機械メーカとして培ったこだわりの技術が、全ての機種に標準搭載されて…

工作機械メーカとして培ったこだわりの技術は、創造性に富んだ革新的技術でラップ盤へと継承され、全ての機種に妥協されることなく標準搭載されています。上定盤が非回転で荷重コントロールが安定するBNシリーズをはじめ、超大型両面ポリッシ盤など、豊富なラインアップを掲載しています。【掲載内容】 ■HAMAIのテクノロジー ■3ウェイ方式ラップ盤・ポリッシ盤 BNシリーズ ■4ウ...

メーカー・取り扱い企業：浜井産業株式会社
セラミックス製構造部品【ミクロンオーダーにも対応可能】

新東独自の成形技術「浸透Vプロセス」で大型形状品や複雑形状部品の一体成…

5） ■ジルコニア（ZrO2） ■ムライト(Al6O13Si2) ■炭化ケイ素（SiC） ■窒化ケイ素（Si3N4） ■コージライト(2MgO・2Al2O3・5SiO2) ■窒化ホウ素(BN) ■窒化アルミ(AlN) ■マシナブルセラミックス ■サイアロン ■ジルアル(ZrO2-Al2O3) ■低誘電損失アルミナ(Al2O3) ※詳しくはお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業：新東Vセラックス株式会社
ファインセラミックスの材質選定いたします。

用途や使用条件に合わせてファインセラミックスの材質選定をいたします。 …

コージライト・ステアタイト・多孔質セラミックマシナブルセラミックは以下のようなものがあります。・ホトベール・マセライト・マコール・シェイパルMソフト・窒化ホウ素（BN、ボロンナイトライド）・マイカレックスMM400（M-31）・マイカレックスMM600（M-25）・アルマタイト・マシナックス ...

メーカー・取り扱い企業：ユタカ産業株式会社本社・工場
ソフトエッチング装置【nanoETCH】＜30W低出力

＜30W（制御精度10mW）低出力RFエッチングによる、精細でダメー…

ゲナイド, 材料転写後のグラフェン剥離）：表面改質クリーニング • PMMA, PPA等のポリマーレジスト除去 • テフロン基板などのダメージを受けやすい基板での表面改質、エッチング • h-BNサイドウオールエッチング（*『フッ化ガス供給モジュール』オプション, SF6ガス系統要） • SiO2エッチング（*『フッ化ガス供給モジュール』オプション, CHF3ガス系統要）【仕様】 ◉...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
イオンプレーティング成膜

50種類以上もの薄膜コーティングを1個からでも対応可能！宇宙開発技術か…

Ti、Au/Pd/Ti、Au/Cr、Cu/Cr　など　酸化膜：Al2O3、SiO2、TiO2、Cr2O3、ITO、MgO、NbO、Ta2O5、WO3、ZrO2、ZnO　など　窒化膜：AlN、BN、CrN、MoN、NbN、SiN、TaN、TiN　など　炭化膜：SiC、TiC、BC　など ■最大搭載可能サイズ：800×1000mm　※小型装置から大型装置まで幅広く保有しております。 ■...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社
切削加工サービス

長年の積み重ねた切削加工技術のプロ集団です！

【設備】 ■旋削設備　・NC六軸自動旋盤　6B-25(ツガミ)：2台　・NC自動旋盤　BS12、18、20、BW12、BN12、S206(ツガミ)：53台　　など ■研削設備　・センターレス研削盤　HGB-24、LGB-20HN(日本精機)：8台　・インフィード研磨盤(日本精機)：6台　など ■転造盤　...

メーカー・取り扱い企業：丸十産業株式会社
金属蒸着装置『ESE-09』

容易に基板セットや蒸着用試料補充と交換が可能！大規模集積回路用の装置で…

『ESE-09』は、高真空領域での使用を目的とした抵抗加熱式の蒸着装置です。アルミ蒸着も想定してBNコンポジットの選択が可能。また、チャンバ開閉は上下分割駆動式で、ウェハを公転させる機能を装備しています。なお、排気系はドライな真空状態を得るために、磁気浮上式広帯域ターボ分子ポンプとドライポ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社日本シード研究所
IBAD(イオンアシスト蒸着法)装置　CVI series

真空蒸着よりも緻密で強度が高く、表面が平滑な成膜が可能！

【特徴】　・従来技術の真空蒸着法に加え、イオンビームを組み合わせた複合技術　・低温で低エネルギー照射が可能　・曲面や立体にも成膜が可能【主な用途】　・超硬工具用保護膜（c-BN）　・食品用バリア膜（アルミ）　・太陽電池用下地膜（アルミ）　・光学用フィルタ膜（ZrO₂、AI₂O₃等） ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社クリエイティブコーティングス
立体形状への成膜加工

平面モノだけでなく、立体モノへの成膜もできます！ご希望の成膜箇所をお聞…

Ti、Au/Pd/Ti、Au/Cr、Cu/Cr　など　酸化膜：Al2O3、SiO2、TiO2、Cr2O3、ITO、MgO、NbO、Ta2O5、WO3、ZrO2、ZnO　など　窒化膜：AlN、BN、CrN、MoN、NbN、SiN、TaN、TiN　など　炭化膜：SiC、TiC、BC　など ※使用装置によって変わりますので、ご相談ください。 ■最大搭載可能サイズ：800×1000mm...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社