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【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)
PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-
書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか! 新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会
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PR7m3容器に取り付けてもボンベ外周からはみ出さない コンパクトな圧力調…
● 徹底的に構造を省スペース化し、取り付けた状態で7m3ボンベ直径内に収まるサイズを実現 ● ボンベ直径内に収まったことで不意の接触事故のリスクを軽減 ● ボンベ置き場が狭小の場合や小型のボンベでの使用に好適 ● 従来製品(CMH-B516-RM)に比べて専有容積48.7%減※ ● 圧力調整ハンドルは抗菌・抗ウイルス仕様で衛生的 ● 特許出願済(出願番号:特願2022-110568) ※それぞれの...
メーカー・取り扱い企業: 日酸TANAKA株式会社 産業機器事業部
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ろ過速度が向上!特にろ過速度の遅い上水汚泥・CMP廃水汚泥などに好適!
『U-TEC型』は、従来のMK II型ろ板構造を進化させ、なおかつ全室同時開閉、 全室単独ろ布走行式のフィルタープレスです。 本体構造がオーバーヘッド式構造採用で、ろ布交換が容易。脱水ケーキの 完全剥離が可能となり、3mm程度の薄い脱水ケーキでも剥離できます。 ろ布洗浄は5室単位で行い、ろ布洗浄水圧力は2.0MPaで効果的に行えます。 また、ろ室に薬液を充填しておこなう自動薬液洗...
メーカー・取り扱い企業: 日立造船株式会社 機械・インフラ事業本部 システム機械ビジネスユニット
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MMP JAPAN 株式会社