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    フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

    PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

    『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...

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    メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

  • 独自技術を採用したガラス加工用レーザー装置 製品画像

    独自技術を採用したガラス加工用レーザー装置

    PR高速かつ正確なガラス微細加工が可能。加工時の応力を抑えて、マイクロクラ…

    『LPKF Vitrion M 5000 Gen2』は、独自に開発した「LIDEプロセス」を採用し、±5μm以下の高精度でガラス微細加工が可能なレーザーシステムです。 加工時の応力を最小限に抑え、チッピングやマイクロクラックの発生を防止。 アドバンストパッケージングで標準使用される150×150mmから 510×515mmまでの大型パネルに対応し、基板のサイズや 形状に合わせて柔軟に対...

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    メーカー・取り扱い企業: LPKF Laser&Electronics株式会社

  • 高気密スーパーパスボックス 製品画像

    高気密スーパーパスボックス

    高気密性を保持しながら、ハンドル開閉で作業性向上

    当製品は、クリーンルームへの物品の搬入・搬出作業時においての汚染を 防ぐため、扉には電磁ロックを採用し、同時開放のリスクを排除した 高気密スーパーパスボックスです。 CPCの除染時には扉をさらに固定し、気密性を向上させます。 また、UVランプ15W5灯は扉開放時に消灯します。 【特長】 ■パスボックス内は、UVランプにより庫屋除染する(自動消灯設定) ■...

    メーカー・取り扱い企業: 三建設備工業株式会社

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