• 【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置 製品画像

    【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

    PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA 製品画像

    【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA

    PR産業用 マネージドPoE+ギガビット光スイッチ:IGPS-9084GP…

    IGPS-9084GP-LAは8×10/100/1000Base-Tと4×100/1000Base-X(SFP)を備え、IEEE802.3atに準拠した産業ネットワーク向けのマネージドギガビットPoE+イーサネットスイッチです。 STP/RSTPは始め、ベンダー独自の冗長プロトコル「O-Ring/Open-Ring/O-RSTP」等のリカバリプロトコルに対応しており、ネットワークの中断や一時的...

    メーカー・取り扱い企業: データコントロルズ株式会社

  • 【表面処理】セラミックコーティング(蒸着)(耐熱性、離型性) 製品画像

    【表面処理】セラミックコーティング(蒸着)(耐熱性、離型性)

    セラミックコーティング(蒸着)(耐久性、耐熱性、離型性(非粘着性))

    ス硬度は2000~3000と非常に高硬度の被膜が得られます。 ■加工可能サイズ 400*400*400程度(膜種によって異なる。) ■処理温度 PVDプロセスの場合 100℃~500℃ CVDプロセスの場合 100℃~600℃(プラズマCVD)、500℃~1200℃(熱CVD) ■母材 工具鋼、ハイス鋼(高速度鋼)、ステンレス鋼、超硬合金など。 ■注意点(処理による欠点等) 穴...

    メーカー・取り扱い企業: 蒲田工業株式会社

  • 【表面処理】DLCコーティング(耐摩耗性、離型性) 製品画像

    【表面処理】DLCコーティング(耐摩耗性、離型性)

    DLCコーティング(耐摩耗性、離型性)

    ■加工技術の詳細 DLCとはダイヤモンドライクカーボンの略称です。 アモルファス(非晶質)構造の炭素薄膜を成膜します。PVD(物理蒸着)CVD(化学蒸着)方式があり目的や条件によって選定致します。 また、DLC処理前に下処理としてWPC処理やブラストロン処理などをすることにより、点接点効果による更なる摩擦係数の低下による滑り性向上も可...

    メーカー・取り扱い企業: 蒲田工業株式会社

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