• 【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置 製品画像

    【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

    PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA 製品画像

    【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA

    PR産業用 マネージドPoE+ギガビット光スイッチ:IGPS-9084GP…

    IGPS-9084GP-LAは8×10/100/1000Base-Tと4×100/1000Base-X(SFP)を備え、IEEE802.3atに準拠した産業ネットワーク向けのマネージドギガビットPoE+イーサネットスイッチです。 STP/RSTPは始め、ベンダー独自の冗長プロトコル「O-Ring/Open-Ring/O-RSTP」等のリカバリプロトコルに対応しており、ネットワークの中断や一時的...

    メーカー・取り扱い企業: データコントロルズ株式会社

  • 高温デジタルキャパシタンスマノメーター『DA03A』 製品画像

    高温デジタルキャパシタンスマノメーター『DA03A』

    高温動作によりゼロ点シフトを低減、CVD, Etch, ALDに!

    ンサ内部へのプロセス副生成物の堆積を最小限に抑えます。 これにより副生成物堆積によって生じる出力ドリフトをほぼ無くします。 150℃または160℃の動作温度で使用でき、メタルエッチングや絶縁膜CVDのような半導体製造における最も必要とされかつ環境の厳しい真空プロセスでの使用が可能です。 【特長】 ■150℃、160℃高温動作可能 ■オールlnconelのキャパシタンスセンサ ■コ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本エム・ケー・エス株式会社

  • インテリジェントリモートプラズマソース『Paragon(R)』 製品画像

    インテリジェントリモートプラズマソース『Paragon(R)』

    NF3最大流量8slm、独自のPEOプラズマブロック設計によりプロセス…

    「Paragon(R)」は、量産実績のあるMKS低磁場トロイダルプラズマ源の特性を基に、次世代ナノプロセス開発と製造に、より適したデータ転送と制御性を実現しました。 CVDおよびALD/ALEプロセスチャンバークリーニングに対応し、8slmのNFガス流量および最大10Torrの圧力条件においても高い分析効率(>98%)が得られます。 【特長】 ■NF最大流量...

    メーカー・取り扱い企業: 日本エム・ケー・エス株式会社

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