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フロー管理システムが搭載!粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理…
『EVADシリーズ』は、ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜可能な、 CVD、PECVD横型炉装置です。 シングルゾーン、マルチゾーンによる温度分布を制御し、 回転機構付き高品質ステンレス製チャンバーにより粉体へも 高温でのCVD/PECVDによる処理が可能。 PLASMICON制御システムにより全自動プロセス、データ保存に対応しています。 【特長】 ■FLOCONシ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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多彩なプラズマソースが搭載可能!CVD、MOCVDやALD装置をカスタ…
当社では、研究開発や小規模バッチ量産向け装置である、 「CVD・MOCVDカスタマイズ装置」を取り扱っております。 CVD、MOCVDやALD装置をカスタマイズ設計で、 PLUM、FLARION及びMIRENIQUEシリーズの多彩なプラズマソースが搭載可能。 また、FLOCONシリーズのフロー管理システムを搭載しております。 【特長】 ■研究開発や小規模バッチ量産向け装置 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能!クオーツ製チューブ型チャ…
『MC-050』は、最大50mm径基板対応のDLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大成膜温度は1100℃(ランプ加熱方式)で、最大6×DLI気化器を搭載可能。 また、マスフローコントローラーは最大8、ターボポンプ搭載可能です。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大50mm径基板対応 ■最大成膜温度:1100℃(ランプ加熱方式) ■最大6x ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』
最大成膜温度は800℃!チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭…
『MC-100/MC-200』は、スチールステンレス製チャンバーの DLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大200mm径基板対応、マスフローコントローラーは最大「MC-100」が8、 「MC-200」は6で、ターボポンプ搭載可能となっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板対応 ■最大成膜温度:800℃ ■最大4...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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