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フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』
PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…
『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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アルミナ(Al2O3 99.5%、99.8 %、 99.9%)
アルミナは良好な電気絶縁性を持ち適度にバランスの取れた最もポピュラーな…
【特長】 ○良好な電気絶縁特性を生かし早くから各種電気部品に応用されてきた 〇ファインセラミックスのなかでは最も安価 ○機械強度が高く耐食性に優れる ○耐プラズマ性に優れているためCVD装置やエッチング装置の部品に最適 ○大型製品の製造が可能 ●特性値はカタログを参照ください...
メーカー・取り扱い企業: 日本ファインセラミックス株式会社
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大面積への成膜加工! ガラス…フィルム…セラミック…金属材…
大面積への成膜加工が可能!もちろん小さなものも(たくさん)搭載できます…
東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工(コーティングサービス)を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少量案件から、中小ロットの生産案件まで、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 小型装置から大型装置...
メーカー・取り扱い企業: 東邦化研株式会社
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高純度アルミナセラミックスADS「電気絶縁性、高強度、耐摩耗性」
ADSアルミナセラミックスは、吸水率が0.01%以下と非常に緻密な焼結…
どの特性 ・半導体やFPD製造用部材としての用途が拡がっている ・酸・アルカリやハロゲンプラズマに対して高い耐食性を有する 【ADSの用途】 ・エッチング、アッシング装置用部品 ・CVD装置用部品 ・ウェーハ研磨用ラッププレート ・ウェーハ搬送用アーム ・各種大型製品や複雑形状品の対応が可能です。 ※詳しくはお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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卓上に置いて即実験!高温小型真空炉として使用可能!
【特徴】 ・ガス系等(オプション)及び真空装置(オプション)を接続すれば高温真空管状雰囲気炉の完成 ・16パターン×16ステップのパソコン通信対応プログラムコントローラーが標準装備(オプションにて32×32プログラム可能) ・専用MPCS(オプション)使用にてパソコンリンク可能 ・電源はA.C200V 1P 4Kw 省エネタイプ ・標準でブルドン真空計付き ...『FT-201P-...
メーカー・取り扱い企業: フルテック株式会社
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卓上に置いて即実験!小型真空炉として使用可能!ガス系等及び真空装置を接…
【特徴】 ・ガス系等(オプション)及び真空装置(オプション)を接続すればCVD装置の完成 ・9パターン×9ステップのパソコン通信対応プログラムコントローラーが標準装備(オプションにて16×16プログラム可能) ・専用MPCS(オプション)使用にてパソコンリンク可能 ・M...
メーカー・取り扱い企業: フルテック株式会社
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