CVD装置 | イプロスものづくり

PRエッチング工程、CVD工程への使用に。高い熱伝導率の「窒化アルミ」、耐…

当社は、半導体製造の分野における、熱特性や異物発生防止のニーズに応える特殊セラミック部品を提供しています。窒化アルミは、最高220W/m・Kの熱伝導率で、最大φ500のプレートを提供可能です。イットリアは、高い耐プラズマ性を備え、焼結材部品と溶射材をラインアップ。溶射時には高い密着性により、パーティクル低減のニーズに対応可能です。【特長】 ■窒化アルミは、半導体装置向...

メーカー・取り扱い企業：千代田交易株式会社

プラズマCVD装置『SHUTTLELINE(R)シリーズ』

小型で多用途に応用可能！デバイス評価プロセスにも適応できる高機能装置で…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応フレキシブル半導体製造装置です。 RIE/ICP-RIE, PECVD/ICP-CVDに対応し、コンパクトな機体に多様なオプションで多用途に使えるフレキシブル装置。企業及びアカデミアのR&D、研究室にラボスケールのコンパクトな装置が必要な方や、1台で成膜・エッチングと...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

プラズマCVD装置『210Dモデル』

φ200mmウェーハまで対応！成膜・エッチングの両用が可能なプラズマC…

『210Dモデル』は、誘導結合プラズマ(Inductively Coupled Plasma：ICP)による、成膜装置です。現場でのハードウエアの交換により、十数分の作業時間で、誘導結合プラズマエッチング装置として使用する事が可能。コンパクトな機体に多彩なオプションで、薄膜の堆積やトレンチのパターニング等、様々なアプリケーションに対応。【特長】 ■簡単なハードウェア交換で、プラズマ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

バッチ式化合物半導体量産機プラズマCVD・プラズマエッチング装置

フランスで設計・製造された業界最小、ウエハトレイのみ交換で2～12イン…

当社で取り扱っている、薄膜用PECVD・ドライエッチング装置「SHUTTLELINE(R)」・バッチプロセス対応コンパクト300＆500シリーズについてご紹介いたします。成膜はPECVD。エッチングはRIE, ICP, ICP-RIE。ユニークなウエハステージを使用することで、例えば2インチウエハであれば 1枚～最大27枚のバッチ処理可。開発から量産までお使いいただけ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

プラズマ成膜装置『KOBUS F.A.S.T.(R)』

パルス機能を利用！ALDと同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成す…

『KOBUS F.A.S.T.(R)』は、産業向けALDレベル膜質のプラズマ成膜装置です。パルス機能を利用することで、ALD(Atomic LayerDeposition：原子層堆積)と同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成する事が可能。プロセス温度は80℃～500℃でウエハサイズは150mm、200mm、成膜速度は 0.1nm/min～500nm/minとなっております...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

イオンビーム　エッチング・成膜装置『QuaZar』

総保有コストを減少させる事が可能！最高クラスの均一性とスループットを実…

『QuaZar』は、大面積イオンソースと高度なモーションコントロールにより、難しいエッチングプロセスや薄膜形成アプリケーションにおいて、プロセス結果を実現できるエッチング・成膜装置です。当製品のMarathon grids技術は、重要な要素となっており、現在お使いの既存のシステムに設置する事も可能。世界の多くのお客様が、grid技術で既存装置の性能を向上させ、寿命を ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)

R＆D用特殊仕様から量産向けまで対応可能！一般的なグリッドと比較して約…

当社で取り扱う、「イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)」をご紹介いたします。標準的なエントリーモデルから、膜厚均一性等の精密な制御が可能なハイエンドモデルまでラインアップ。企業、アカデミアでの研究開発向けに、グローブボックス付属等の特殊仕様にも対応します。また、R＆Dのラボスケールから量産まで対応し、難エッチング材料のエッチングプロセスや、デュアルイ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

成膜装置『Corial 200 Series』

用途に応じてコンフィギュレーションする事ができるプラズマエッチング・成…

発向け装置。ウエハサイズは50mm,100mm,150mm,200mmです。【特長】 ■共通プラットフォームを用いる ■RIE,ICP,ICP+RIE,ICP-CVD又はPECVD装置 ■研究開発向け ■ウエハサイズは50mm,100mm,150mm,200mm ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社