特長的な基板にも対応可能な！3D局所加熱のIHはんだ付け装置

PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…

『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富山技販

コーティング剤検査装置『Sonar』

PRUVライトを使った2Dコーティング剤検査装置。独自開発AIを使った気泡…

『Sonar』は、弊社が持つ画像処理検査技術とUVライト＋RG照明を組み合わせたコンフォーマルコーティング剤検査装置です。 コーティング領域の全面検査とコーティング不可領域の任意検査に加え、自社開発AI技術を使った気泡検出機能が標準装備されています。また、レーザー変位センサを使った膜厚測定（オプション）を搭載することでワーク毎のコーティング厚のバラつきを記録することが可能になります。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ジュッツジャパン

UVオゾン洗浄改質装置

卓上式UVオゾン洗浄改質装置です。☐150～350まで各種製作可能

装置外形：W500×D460×H280 試験台サイズ：ｗ200×ｄ200×ｈ20 装置重量（Kg）：25 ランプ搭載本数（本）：4 消費電力：AC100V50/60Hz200W ■CUVD50U-05 装置外形：W550×D550×H300 試験台サイズ：ｗ250×ｄ250×ｈ20 装置重量（Kg）：30 ランプ搭載本数（本）：5 消費電力：AC100V50/60Hz290W...

メーカー・取り扱い企業： コスモ技研株式会社

真空UV硬化装置『ＫＮＵＶ－１』

真空環境下でのＵＶ照射により硬化処理効率ＵＰ！ 最大８インチまでのウ…

★ 真空環境下でのＵＶ照射により硬化処理効率ＵＰ！ ★ 最大８インチまでのウェハリング対応！ ★ 窒素パージ不要でランニングコスト削減！ ★ 工程ウエハ処理に最適！ ・酸素濃度を真空環境にして ＵＶ照射すれば硬化不良を低減 ・デバイス直下のボイドも真空環境により除去 大気圧(10万Pa)での酸素濃度（約20％） 本機真空チャンバー圧(5Pa)での 酸素濃度⇒ ０．００１％◇ 主要...

メーカー・取り扱い企業： KNE株式会社

高速ハンドラー装置　部品移載機『BITA-1,2』

最大25,000UPHの高速移載 高精度/ ダメージレス収納 様々…

★ 最大25,000UPHの高速移載！ ★ 高精度±0.02mmの収納！ （※保証精度は±0.05mm) ★ ダメージレス収納 ・・・微細部品に優しい吸着・収納 ★ 様々なオプション機能 ★ 多種の外観検査 （２面・６面）に対応 1．１６ノズルヘッドによる高速移載： 最大25,000UPH 移載ヘッドには高速自転・公転する16本のノズルを 備え、1往復のX軸動作で16個の部品を一...

メーカー・取り扱い企業： KNE株式会社

小型プラズマクリーナー『KNPC-1』

12インチリング付きウェハ処理が可能！ 表面改質、無機物/有機物汚染…

★ 12インチリング付きウェハ処理が可能！ ★ 表面改質、無機物/有機物汚染除去！ ★ 量産前の評価、研究に最適！ ★ 高速、低価格 ★ 様々なオプション機能 ★ 300mmウェハ、矩形基板への対応可 [ 主要性能] ・到達圧力：6.0Pa以下(ガスバラスト閉時） 　　※最大排気速度500L/min ドライポンプを使用 ・リークレート：1.07 Pa/min以下 　　※ビルドア...

メーカー・取り扱い企業： KNE株式会社

シリコンウェハ

2インチ；3インチ；4インチ；5インチ；６インチ；8インチ；１２インチ…

ウェハー (wafer ウェイファ)は、半導体素子製造の材料である。高度に組成を管理した単結晶シリコンのような素材で作られた円柱状のインゴットを、薄くスライスした円盤状の板である。洋菓子のウェハースに由来（英語表記ではいずれもwafer）。 ウェハーのほか、ウェーハ、ウエーハ、ウエハー、ウェハ、ウエハなどさまざまに呼ばれる。 ...ウェハーの直径は50mm–300mmまでいくつかあり、この...

メーカー・取り扱い企業： D&X株式会社