• ワークベンチセット【3D溶接定盤シリーズ・治具システム】 製品画像

    ワークベンチセット【3D溶接定盤シリーズ・治具システム】

    PRドイツ発!本格溶接作業台をお手頃価格で!DIY等でのワーク固定にも!

    セット内容 ・[WS161208] ワークベンチ サイズ:1200x800x12  …1台  ・[160621]  クランプ …4個 ・[160511]  クイッククランピングボルト …8個 ・[160108.A]  スクエア …4個 ・[160109.A]  スクエア …4個 ドイツ発!プロ向け溶接定盤メーカーSiegmund社の溶接作業台をお手頃価格で! ライトユーザー向け、...

    • 96c2ffe622d697642bf081921fd42456_24.jpg
    • IPROS9994932042334742545.png
    • full.jpg
    • op2.jpg
    • op1.jpg
    • op4.jpg
    • op5.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エステーリンク メタルエステ事業部

  • コーティング剤検査装置『Sonar』 製品画像

    コーティング剤検査装置『Sonar』

    PRUVライトを使った2Dコーティング剤検査装置。独自開発AIを使った気泡…

    『Sonar』は、弊社が持つ画像処理検査技術とUVライト+RG照明を組み合わせたコンフォーマルコーティング剤検査装置です。 コーティング領域の全面検査とコーティング不可領域の任意検査に加え、自社開発AI技術を使った気泡検出機能が標準装備されています。また、レーザー変位センサを使った膜厚測定(オプション)を搭載することでワーク毎のコーティング厚のバラつきを記録することが可能になります。 ...

    • Sonar_UV.jpg
    • Sonar_レーザー変位センサ.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ジュッツジャパン

  • スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』 製品画像

    スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタ源 x 3:連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統(MFC制御)、RF/DC PSUの増設(最大2電源まで)...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • マグネトロンスパッタコーター SC-701MC 製品画像

    マグネトロンスパッタコーター SC-701MC

    イオンダメージを軽減するマグネトロンカソード採用 フルオートマチック…

    軽量コンパクトながら高い再現性をもつデスクトップスパッタコーター 【特徴】 ○イオンダメージを軽減するマグネトロンカソード採用 ○マグネトロンカソードが、質の高い薄膜作製に貢献 ○排気 → コーティング → 大気開放までフルオート ○電極用のスパッタ薄膜が手軽にコーティングできます ...【仕様】 〇ターゲットサイズ:φ49mm 〇適用可能ターゲット:Au/Au-Pd/Pt/P...

    メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社

  • 全自動イオンコーター SC-701AT 製品画像

    全自動イオンコーター SC-701AT

    SEM用試料作製に適した全自動イオンコーター

    QUICK AUTO COATER SC-701ATは、真空排気からコーティング(エッチング)、大気解放までを自動で行なう全自動タイプのコーターです。 【特徴】 ○膜厚制御連動方式により、個人差の少ないコーティングが可能(良再現性)。 ○コーティング/エッチングモード搭載 〇デバイスの電極膜付けにも使用可能 ...【仕様】 〇ターゲットサイズ:φ49mm 〇適用可能ターゲット:A...

    メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社

  • デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』 製品画像

    デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』

    コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物…

    『SVC-700RFIII』は、卓上に置けるコンパクトなサイズながらφ2インチのカソードを3基搭載。3種類のターゲットを使用した積層膜の形成が可能なRFマグネトロンスパッタ装置です。 ガス導入機構を増設でき、アルゴンガスを含めた最大3種類のガス導入が可能。 金属薄膜に加え、絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜など様々な薄膜作製に対応できます。 【特長】 ■研究開発向けのデスクトップサイ...

    メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社

  • 【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置 製品画像

    【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタカソード x 3:自動連続多層膜, 2源同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:基板回転・昇降、基板加熱(Max500℃)、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ3源+3系統(MFC制御)、RF/DC ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

1〜5 件 / 全 5 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • icadtechnicalfair7th_1_pre2.jpg

PR