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PICWave (Photonic IC/Laser /SOA)
PICWave は、アクティブデバイスを含む(半導体レーザ・SOA)光…
PICWave is a photonic integrated circuit (PIC) design tool which brings together: an advanced laser diode and SOA model, a powerful photonic integrated circuit (PIC) design and simulation tool, a f...
メーカー・取り扱い企業: CTflo株式会社
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研究用チューナブルレーザーに要求される最高クラスの安定性とパフォーマン…
トプティカ社の DL pro は波長可変レーザーです。 革新的なメカニカルデザインは容易な操作性と安定性を実現しました。 波長選択グレーティングの仮想ピボットポイントにより最大の出力、 最適化された波長範囲においてモードホップフリー波長チューニングが可能。 (特許技術:DE 10 2007 028 499 および US 7970024)。 また、DLC pro デジタルコントローラと...
メーカー・取り扱い企業: トプティカフォトニクス株式会社 営業部
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Oxygen Atom Beam Source OBSの製品情報となり…
The Oxygen Atom Beam Source OBS is a thermal gas cracker which produces an ion-free oxygen gas beam. The OBS does not cause ion induced damage on the substrate. It exhibits a very compact design and i...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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最高80MPaの耐圧を有し、 日々のメソッド開発に適したLC
日々のメソッド開発の課題を解決!既存システムの段階的なアップグレードも…
『1260 Infinity II メソッド開発システム』は、最高80MPaの耐圧を有し、 日々のメソッド開発に適したシステムです。 100種類を超える、異なるLC分離条件での、自動スクリーニングが可能で マニュアル操作は不要。15の異なる移動相および2つの独立した温度ゾーンで、 4本までのカラムを用いたメソッド開発が可能です。 新しい 1260 Infinity II フレキシ...
メーカー・取り扱い企業: アジレント・テクノロジー株式会社
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