特長的な基板にも対応可能な！3D局所加熱のIHはんだ付け装置

PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…

『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富山技販

MAZAK INTEGREX i-200H 新規導入

PR【複合加工・自動化に好適】

竹沢精機は、新たなターニングセンタを導入しました。 同時5軸制御の為、複合的な機械加工及び自動化に対応可能です。 ...・型式　　：　INTEGREX　i-200H 590µ　（MAZAK 製） ・スペック：　φ600 x 590 (同時5軸）　 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社竹沢精機

水素ガス発生装置（標準機）

水の電気分解による水素ガス発生装置。分析機器や燃料電池の研究に最適。

品番：YH-500 水素ガス純度：99.999%以上 発生量：500ml/min 発生圧力：0～0.4MPa 水タンク容量：4L 電源：AC100V, 50-60Hz, 消費電力200W ガス出口...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サイテム

水素ガス発生装置（高圧タイプ）

水の電気分解による水素ガス発生装置。分析機器や燃料電池の研究に最適。

品番：YH-500H1 水素ガス純度：99.999%以上 発生量：500ml/min 発生圧力：0～0.9MPa 水タンク容量：4L 電源：AC100V, 50-60Hz, 消費電力200W ガス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サイテム

水素ガス発生装置（水素/酸素同時発生タイプ）

水の電気分解による水素/酸素ガス発生装置。分析機器や燃料電池の研究に最…

品番：YH-500HO 水素ガス純度：99.999%以上 発生量：水素500ml/min、酸素250ml/min 発生圧力：水素0～0.4MPa、酸素0～0.3MPa 水タンク容量：3L 電源：AC...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サイテム

水素ガス発生装置（大流量タイプ）

水の電気分解による水素ガス発生装置。分析機器や燃料電池の研究に最適。

品番：YH-1000 水素ガス純度：99.999%以上 発生量：1000ml/min 発生圧力：0～0.4MPa 水タンク容量：4L 電源：AC100V, 50-60Hz, 消費電力750W ガス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サイテム