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フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』
PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…
『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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PR高速かつ正確なガラス微細加工が可能。加工時の応力を抑えて、マイクロクラ…
『LPKF Vitrion M 5000 Gen2』は、独自に開発した「LIDEプロセス」を採用し、±5μm以下の高精度でガラス微細加工が可能なレーザーシステムです。 加工時の応力を最小限に抑え、チッピングやマイクロクラックの発生を防止。 アドバンストパッケージングで標準使用される150×150mmから 510×515mmまでの大型パネルに対応し、基板のサイズや 形状に合わせて柔軟に対...
メーカー・取り扱い企業: LPKF Laser&Electronics株式会社
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優れた安定性!従来のトリプル四重極システムと異なり、4段階の質量分解能…
『NexION 5000』は、困難なアプリケーションに対処するために設計された、 真のトリプル四重極を搭載した革新的なマルチ四重極ICP-MSです。 高分解能形ICP-MSや従来のトリプル四重極ICP-MSを超えて、卓越したBECを提供。 従来のトリプル四重極システムと異なり、4段階の質量分解能を持っています。 また...
メーカー・取り扱い企業: PerkinElmer Japan合同会社
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独自技術の融合による最高の性能で、お客様の分析上の課題にお応えします!
『NexION 1000』は、日常業務として微量レベルの多元素分析を行うのに 理想的な高スループットなシステムです。 当社独自のUniversal Cell Technologyを備えており、シングルガスを用いた コリジョンモードとリアクションモードの切り替えにより、効率的な干渉除去 を実現します。 また、優れたスピードと操作性を提供するために独自の技術を多数搭載し、 従来にも...
メーカー・取り扱い企業: PerkinElmer Japan合同会社
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