• フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』 製品画像

    フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

    PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

    『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...

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    メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

  • ICカードリーダー『IC SCAN』 製品画像

    ICカードリーダー『IC SCAN』

    PRFeliCa/Mifare対応!ICカードの読み取りが簡単にできます

    『IC SCAN』は、多機能で簡単操作のIC読み取り専用システムです。 DES/AES鍵ありデータエリアの読み取りも可能。 FeliCaサービスの読み取り制限がないほか、 Excelなどにキーボード出力可能など多機能です。 また、SIP独自開発ソフトのため、多種カスタマイズの開発も 受け付けます。(有償) 【特長】 ■IDm、UIDの読み取りができる ■読み取ったデータ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社システムズ・インテリジェンス・プロダクツ(SIP)

  • 冷却水循環装置『RKE1500B1-V-G2』【レンタル取次ぎ】 製品画像

    冷却水循環装置『RKE1500B1-V-G2』【レンタル取次ぎ】

    液温制御範囲5~35℃と幅広い用途に対応した水槽内蔵DCインバーターチ…

    温度制御制度±0.1℃の高精度を両立した冷却水循環装置です。 液温制御範囲5~35℃と幅広い用途に対応。 ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。 【特長】 ■30%以上の省エネと圧縮機回転制御方式で温度制御制度±0.1℃の  高精度を両立 ■液温制御範囲5~35℃と幅広い用途に対応 ...

    メーカー・取り扱い企業: ニッシン産業株式会社

  • 冷却水循環装置『RKE3750B-V-G2』【レンタル取次ぎ】 製品画像

    冷却水循環装置『RKE3750B-V-G2』【レンタル取次ぎ】

    周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現している大型水槽付チラーのご紹…

    す。 冷凍機・ファン・ポンプもインバーター制御。 周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現しています。 ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。 【特長】 ■業界トップクラスの省エネ性能を実現 ■冷凍機・ファン・ポンプもインバーター制御 ■周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現 ...

    メーカー・取り扱い企業: ニッシン産業株式会社

  • 冷却水循環装置『RKE3750B-V-G2』 製品画像

    冷却水循環装置『RKE3750B-V-G2』

    周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現している大型水槽付チラーのご紹…

    す。 冷凍機・ファン・ポンプもインバーター制御。 周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現しています。 ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。 【特長】 ■業界トップクラスの省エネ性能を実現 ■冷凍機・ファン・ポンプもインバーター制御 ■周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現 ...

    メーカー・取り扱い企業: ニッシン産業株式会社

  • 冷却水循環装置『RKE1500B1-V-G2』 製品画像

    冷却水循環装置『RKE1500B1-V-G2』

    液温制御範囲5~35℃と幅広い用途に対応した水槽内蔵DCインバーターチ…

    温度制御制度±0.1℃の高精度を両立した冷却水循環装置です。 液温制御範囲5~35℃と幅広い用途に対応。 ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。 【特長】 ■30%以上の省エネと圧縮機回転制御方式で温度制御制度±0.1℃の  高精度を両立 ■液温制御範囲5~35℃と幅広い用途に対応 ...

    メーカー・取り扱い企業: ニッシン産業株式会社

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