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    SMT実装機(基板実装機)『SIPLACE TX micron』

    PR0201mサイズの極小部品に対応。サブモジュールやSiPなどの先端パッ…

    『SIPLACE TX micron』は、最小±10 μm (3σ)の精度に対応した 先端パッケージング用途に適した表面実装機です。 基板への接触を検出してから部品を離す“圧力制御”により 基板の反りや振動を抑えつつ、はんだブリッジといった不良も防止。 角度の誤差が少なく、狭隣接で実装できるほか 0201 mサイズの極小部品の実装に対応可能です。 【特長】 ■最大実装速度...

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    メーカー・取り扱い企業: ASMPT Japan株式会社

  • 協働ロボット パレタイザー 向け (LC3IC Elevate) 製品画像

    協働ロボット パレタイザー 向け (LC3IC Elevate)

    PRLC3 IC は 3 段式電動昇降装置で、ドライバー内蔵。協働ロボット…

    LC3 IC は 3 段式電動昇降装置で、ドライバーが内蔵されているため、電動昇降装置のオンボード制御や診断が簡単です。LC3 IC は、産業用通信インタフェースにより、協働ロボットパレタイザーや高さ調整可能なコンベアベルトなどの用途など、産業人間工学に好適な電動昇降装置となっています。 LC3 IC は ELEVATEと呼ばれるモデルで、特に特定のインターフェース、ソフトウェアドライバー、...

    メーカー・取り扱い企業: リナック株式会社 日本支社

  • 冷却水循環装置『RKE1500B1-V-G2』【レンタル取次ぎ】 製品画像

    冷却水循環装置『RKE1500B1-V-G2』【レンタル取次ぎ】

    液温制御範囲5~35℃と幅広い用途に対応した水槽内蔵DCインバーターチ…

    温度制御制度±0.1℃の高精度を両立した冷却水循環装置です。 液温制御範囲5~35℃と幅広い用途に対応。 ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。 【特長】 ■30%以上の省エネと圧縮機回転制御方式で温度制御制度±0.1℃の  高精度を両立 ■液温制御範囲5~35℃と幅広い用途に対応 ...

    メーカー・取り扱い企業: ニッシン産業株式会社

  • 冷却水循環装置『RKE3750B-V-G2』【レンタル取次ぎ】 製品画像

    冷却水循環装置『RKE3750B-V-G2』【レンタル取次ぎ】

    周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現している大型水槽付チラーのご紹…

    す。 冷凍機・ファン・ポンプもインバーター制御。 周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現しています。 ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。 【特長】 ■業界トップクラスの省エネ性能を実現 ■冷凍機・ファン・ポンプもインバーター制御 ■周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現 ...

    メーカー・取り扱い企業: ニッシン産業株式会社

  • 冷却水循環装置『RKE3750B-V-G2』 製品画像

    冷却水循環装置『RKE3750B-V-G2』

    周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現している大型水槽付チラーのご紹…

    す。 冷凍機・ファン・ポンプもインバーター制御。 周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現しています。 ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。 【特長】 ■業界トップクラスの省エネ性能を実現 ■冷凍機・ファン・ポンプもインバーター制御 ■周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現 ...

    メーカー・取り扱い企業: ニッシン産業株式会社

  • 冷却水循環装置『RKE1500B1-V-G2』 製品画像

    冷却水循環装置『RKE1500B1-V-G2』

    液温制御範囲5~35℃と幅広い用途に対応した水槽内蔵DCインバーターチ…

    温度制御制度±0.1℃の高精度を両立した冷却水循環装置です。 液温制御範囲5~35℃と幅広い用途に対応。 ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。 【特長】 ■30%以上の省エネと圧縮機回転制御方式で温度制御制度±0.1℃の  高精度を両立 ■液温制御範囲5~35℃と幅広い用途に対応 ...

    メーカー・取り扱い企業: ニッシン産業株式会社

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