リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

簡単導入！電子実験記録ノート『BIOVIA Notebook』

PR【使用開始にあたり特別な準備やトレーニングが不要！】シンプルな画面構成…

電子実験ノート 『 BIOVIA Notebook 』は簡単に導入・運用できるELN/電子実験ノートで、研究開発部門のDX化推進に好適なツールです。 実験業務において、研究開発のスピードUP、コスト削減、 組織間情報共有を実現することで研究開発でのイノベーションを促進します。 過去には数億円規模でのコストダウンや4,000ユーザの運用でも専任不要の実績がございます。 また BIOVIA Note...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

書籍　MEMSデバイス総論【新装版】

シュミレーションシステムから最新技術で製作されたデバイス、応用技術を解…

○発刊日2009年04月22日○体裁B5判並製本 301頁○価格(税込)：33,000円＋税 →STbook会員価格：31,350円＋税 初版 2009年4月 本書は、2009年4月発刊「MEMSデバイス総論」 (ISBN 978-4-903413-65-5)の装丁および価格を改訂したものです。 内容は2009年の書籍と同じですので、ご購入時にお間違えないようご注意ください。 ○...

メーカー・取り扱い企業： S&T出版株式会社

【Webセミナー】リソグラフィプロセスにおけるめっきの基礎

リソグラフィプロセスにおけるめっき，レジストマスクの基礎とトラブル対策…

　近年、めっき技術はエレクトロニクス産業における基盤技術として、その重要性が確立されています。半導体デバイスや高周波用プリント基板およびMEMSなどのエレクトロニクスにおいては、主に、配線形成技術として実用化されています。また、高精度な配線やプラグ構造を形成するにはリソグラフィ技術が必要です。この技術では、レジストマスクで設計された領域に...

メーカー・取り扱い企業： S&T出版株式会社