• 処理効率は98%以上のアンモニア分解装置!省エネルギーを実現 製品画像

    処理効率は98%以上のアンモニア分解装置!省エネルギーを実現

    PR某化学メーカー等、導入実績多数! 排ガスの風量に合わせて小風量~大風量…

    当製品は、NH3を使用した試験を実施されており、 その排ガスを処理する試験用アンモニア分解装置です。 処理効率は98%以上で、自社製バーナを使用しており、安全に処理します。 また高濃度のアンモニアの場合は、直接燃焼することも可能です。 ご用命の際はお気軽にご相談ください。 【特長】 ■某化学メーカー等、導入実績多数有り ■排ガスの風量に合わせて小風量~大風量まで対応可能 ■省スペース、省エネル...

    メーカー・取り扱い企業: サンレー冷熱株式会社

  • 『アルマイト処理の受託サービス』 製品画像

    『アルマイト処理の受託サービス』

    PR2700×650×1250mmの大型品や、400kgまでの重量物に対応…

    当社は『アルマイト処理』を行うための工場を保有し、超大型の電解槽で 様々な形状・サイズのアルマイト処理を行っています。 高電流・高電圧のアルマイト処理で、鋳物・ダイキャスト製品への 均一な処理が可能。通電が必要な箇所はマスキング対応が可能です。 例えば、1250×2500mmのアルミ板材や、1個400kgの印刷ロールなどの 処理が容易に行え、治具の種類も豊富で複雑形状にも対応でき...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社富商 本社

  • 半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ 製品画像

    半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

    高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

    『ULTRA』は、半導体用マスク作成に適した、高速高解像度レーザー描画装置です。 『ULTRA』高生産性、高精度性、高均一性、超高精度位置合わせ精度を備えるコスト性の良いマスク描画装置です。...【基本性能】 ■最小図形寸法: 500nm ■描画速度: 580mm2/分(FXモード時)、325mm2/分(QXモード) ■ラインエッジラフネス:20nm(QXモード) ■CD均一性:30...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

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