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  • 独自技術を採用したガラス加工用レーザー装置 製品画像

    独自技術を採用したガラス加工用レーザー装置

    PR高速かつ正確なガラス微細加工が可能。加工時の応力を抑えて、マイクロクラ…

    『LPKF Vitrion M 5000 Gen2』は、独自に開発した「LIDEプロセス」を採用し、±5μm以下の高精度でガラス微細加工が可能なレーザーシステムです。 加工時の応力を最小限に抑え、チッピングやマイクロクラックの発生を防止。 アドバンストパッケージングで標準使用される150×150mmから 510×515mmまでの大型パネルに対応し、基板のサイズや 形状に合わせて柔軟に対...

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    メーカー・取り扱い企業： LPKF Laser&Electronics株式会社

  • 特長的な基板にも対応可能な！3D局所加熱のIHはんだ付け装置 製品画像

    特長的な基板にも対応可能な！3D局所加熱のIHはんだ付け装置

    PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…

    『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社富山技販

  • 金属、光学多層膜などの真空蒸着 製品画像

    金属、光学多層膜などの真空蒸着

    真空蒸着でお困りのことはございますか？蒸着のことならなんでもお気軽にお…

    物理的に蒸着可能なあらゆる金属を真空蒸着できます。 Al Au Pt Cｒ Cu Ti Si Pd Ni Mo など また、光学関連の蒸着も得意です。 ...

    メーカー・取り扱い企業： ニ光光学株式会社

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