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    フュームドシリカ

    PRHTV、RTVシリコーンラバー、接着剤、シーラントなどの用途に好適!

    当社で取り扱う『フュームドシリカ』について、ご紹介いたします。 充填強化(エラストマー)、レオロジー、チクソトロピーコントロール (リキッド、バインダー、ポリマー)。 また、硬化防止、増粘、垂れ防止、流動性改善、粉体の凝集防止という 特長もございます。 【優位点】 ■China最大級の生産規模(親水性タイプ:25,000MT/Y,疎水性タイプ:21,000MT/Y) ■先...

    • フュームドシリカ2.PNG

    メーカー・取り扱い企業: IMCDジャパン合同会社

  • 材料開発DXを加速! 活用事例紹介ウェビナー開催<無料> 製品画像

    材料開発DXを加速! 活用事例紹介ウェビナー開催<無料>

    PR原子レベルのシミュレーションとマテリアルズ・インフォマティクス活用で材…

    半導体や電子部品から日用品に至るまで、様々な材料開発において、原子・分子レベルでの設計が求められています。 シュレーディンガーの『Materials Science Suite』は、各種の原子・分子レベルのシミュレーションおよび機械学習により、材料開発を大幅に加速するソフトウェア・プラットフォームです。 さらに、データ駆動型アイデア創出プラットフォーム『LiveDesign』は、計算技術を活用...

    メーカー・取り扱い企業: シュレーディンガー株式会社

  • 【分析事例】TDSによる温度保持中の脱ガス評価 製品画像

    【分析事例】TDSによる温度保持中の脱ガス評価

    温度保持中の脱ガス強度の変化を調査できます

    TDSは高真空中で試料を昇温、または温度を一定に保持した状態で、脱離するガスをリアルタイムに検出する手法です。 Si基板上SiN膜について350℃で温度を保持し、H2の脱離量を調査した例を示します。 単純昇温では500℃付近に脱ガスピークが確認されましたが、350℃で温度保持中はH2の検出強度は低下し、再昇温時に脱ガスピークが確認されました。...詳しいデータはカタログをご覧ください...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

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