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豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置
コンパクトな卓上型ALD。 半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。 プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。 順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...設置面積:48x48cm 基板サイズ: 最大4インチ プレカーサー材料:5系統 方式:ホットウォール...
メーカー・取り扱い企業: ALDジャパン株式会社
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透明導電膜エッチング液(アモルファス向け)『ITO-07N』
SiO2、SiNxなど様々な下地膜に対しエッチング残渣無く加工可能なI…
『ITO-07N』 は、FPD製造プロセスにおけるアモルファスITO、IZO 等の高精細パターニングが可能な透明導電薄膜エッチング液です。 【特徴】 ■アモルファス ITO、IZO 等のパターニングに最適 ■サイドエッチングが少なく、高精細なパターンニングが可能 ■低発泡性で、破泡性に優れる ※詳細は弊社HP又は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい...□詳...
メーカー・取り扱い企業: 関東化学株式会社 電子材料事業本部
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a-SiC:H(堅牢膜)等のパッシベーション膜形成が可能!高密度プラズ…
当社で取り扱う『Corial D250L/Kayen HDRF』により、 プラズマ技術のバイオ・医療への応用が可能です。 人体埋め込み型センサーや医療機器のパッシベーション膜を形成。 複雑な形状のインプラント用セラミック、金属物の 表面除染も対応可能です。 【パッシベーション膜の特長】 ■現在、業界で注目されている、以下4種の膜形成が可能 ・a-SiC:H(堅牢膜) ...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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低温での成膜加工が可能!ポリイミド、ポリカーボネート、アクリル、PET…
東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工(コーティングサービス)を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少量案件から、中小ロットの生産案件まで、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 小型装置から大型装置ま...
メーカー・取り扱い企業: 東邦化研株式会社
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