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実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD(原子層堆積)装置』
PRご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パ…
ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。 Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能です。 ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜のお手伝い、お客様立会い によるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータ...
メーカー・取り扱い企業: ワッティー株式会社
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絶縁体SiO2(二酸化ケイ素)使用の高温/位相安定セミリジッドタイプケ…
弊社コムクラフトは米国Times Microwave Systemの日本総代理店です。 SiO2ケーブルは絶縁体にSiO2(二酸化ケイ素)を使用しており、温度に対する位相変動を最小に抑えることが可能です。また高温対応コネクタを使用しハーメチック加工をすることで-273℃~600℃までの広域温度帯対応のアッセンブリのご提供が可能です。 航空・宇宙用途や耐放射線が必応な加速器等のアプリケーション...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社コムクラフト
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