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    高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置（HR-PVD）

    誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜

    従前のマグネトロンスパッタでは成膜レートが低くなるAl2O3、SiO2などの誘電体、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ（IBD)装置です。　 ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電...

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    メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

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