SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置

厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス（特許出願中）

PD-270STPは、液体ソースのTEOSによるシリコン酸化膜（SiO2）形成用の低温、高速プラズマCVD装置です。カソード側の高いシース電界で得られるイオンエネルギーにより、薄膜から厚膜までのシリコン酸化膜を低ストレスで形成することが可能です。...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

プラズマCVD装置

プラズマCVD装置

PD-220LCは、各種シリコン系薄膜（Si3N4、SiO2等）を形成するための量産型プラズマCVD装置です。トレーカセット方式、真空カセット室を採用し、φ4インチウエハー月間3000枚の高スループットを実現しています。本装置では、化合物半導体プロセスでの...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

プラズマCVD装置

プラズマCVD装置

なプラズマCVD装置『PD-220シリーズ』での経験をもとに開発したロードロック式装置です。本装置は、コンパクトな設計でありながら基板有効径がφ220mmあります。各種シリコン系薄膜（Si3N4、SiO2等）の形成を目的としており、最先端の研究からセミ量産まで幅広く対応可能です。...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

ドライエッチング装置 RIE-10NR（平行平板型RIE装置）

数百台の実績を誇る汎用性に優れたドライエッチング装置。

RIE-10NRは、Si、Poly-Si、SiO2、Si3N4などの各種シリコン薄膜の高精度エッチングを目的としたリアクティブイオンエッチング装置です。本装置は、価格が低廉でありながら搭載されたPLCにより各種エッチング条件の管理を行うことができ...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社