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実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD(原子層堆積)装置』
PRご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パ…
ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。 Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能です。 ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜のお手伝い、お客様立会い によるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータ...
メーカー・取り扱い企業: ワッティー株式会社
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燃焼式排ガス処理装置です
半導体製造装置により排出されるSiH4等の水素化合物、C2F6、SF6等の フッ素化合物等の排ガスを燃焼バーナーの熱排ガスを利用して熱分解させることにより 処理します。また、熱分解後の生成物(SiO2粉、酸性ガス等)は同パッケージ内の ウェットスクラバーにて後処理します。 【特長】 ・燃焼ノズルと二次燃焼室を分離することにより、流量変動時に安定燃焼が可能です。 ・最大処理流量500...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社
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