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実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD(原子層堆積)装置』
PRご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パ…
ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。 Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能です。 ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜のお手伝い、お客様立会い によるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータ...
メーカー・取り扱い企業: ワッティー株式会社
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2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。
Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-Si-Cu、Ni、W、W-Si-Cu その他 Poly-Si、a-Si、SiC、Low-k(SiOC系、有機化学系)、グラフェン膜、グラファイト *SiO2,SiN,SiONなど膜種により1枚からでも対応が可能です。 *Suputter成膜にてTi,Cu,Cr,Niなど対応可能です。 *レジスト塗布/露光/エッチングは4インチ~12インチ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社
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3インチ~12インチまで少量対応が可能です。 仕様により高抵抗基板・…
I以外にも、基板・デバイス層とも高抵抗FZシリコンを使用したSOIウェーハも対応可能です。 直径:3インチ~12インチ SOI層:2-200um程度(抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能) SiO2(酸化膜)層:0.5-2um程度(0.1-10umも対応可能) 支持基板:300-725um程度(直径によりますが抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能) *仕様によりますが新規対応は10枚程度から...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社
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1インチ以下~450mmまで提供が可能です。各種成膜加工、FZウェーハ…
規作成での対応も可能です。 新規作成の場合,最小枚数は10枚程度からのご提供になります。 直径:3inch-12inch SOI層:2-200um程度(抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能) SiO2(酸化膜)層:50nm-2um程度(0.1-10umも対応可能) 支持基板:300-725um程度(抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能) 数量:在庫品の場合は数枚程度から対応可能 *お手持ちの...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社
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