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実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD(原子層堆積)装置』
PRご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パ…
ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。 Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能です。 ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜のお手伝い、お客様立会い によるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータ...
メーカー・取り扱い企業: ワッティー株式会社
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OPTO DIODE社 XUV−UV検出用Siフォトダイオード
軟X線〜UV領域での内部量子効率がほぼ100%
.E.), 耐放射線性, 高ダイナミックレンジ ‐ 較正可能:米NIST・独PTB・(産業技術総合研究所**) ** 波長によっては対応できません。 ★シリーズ★ ‐AXUVシリーズ:SiO2層6−8nm・100%Q.E. フォトン検出領域(0.04nm〜1100nm) 低エネルギー エレクトロン・イオン ‐UVGシリーズ:SiO2層40−150nm・100%Q.E. ...
メーカー・取り扱い企業: ラドデバイス株式会社
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