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真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』
PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…
ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノア 岐阜本社 東京本部 大阪支店 九州支店
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光のエネルギーで高度なドライ洗浄と表面改質ができます。
110W低圧水銀ランプの採用により強力な表面処理が行える卓上型光表面処理装置です。コンパクト設計により設置スペースをとらない事に加え、最も低価格な装置です。...【特徴】 ○高品質合成石英を使用した高出力低圧水銀ランプ110W光源による強力な表面処理 ○設置スペースをとらないコンパクトな装置 ○タイマーにより0.1s~9990h迄の自動照射が可能 ○装置を3分割することにより軽量化を実現 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社魁半導体
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