• 一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末 製品画像

    一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末

    PRサブミクロンから塊状まで幅広くカスタマイズ可能なSiOパウダー。LiB…

    当社は、リチウムイオン電池(LiB)負極材料などとして活用可能な 『一酸化ケイ素(SiO)』を提供しています。 粉末状(1~100μm)、粒状(1~5mm)、塊状(50~200mm)に対応し、 サブミクロンレベルまでカスタマイズ可能です。 1μmの粉末でSiO純度99.8%、5μmの粉末でSiO純度99.9%などの製品事例があります。 【特長】 ■製造方法:結晶化学気相成長法 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • 選ばれるのには理由がある!Moxaの超小型イーサネットスイッチ 製品画像

    選ばれるのには理由がある!Moxaの超小型イーサネットスイッチ

    PR複雑化する産業用ネットワークインフラ構築に高信頼性のMoxa製品を!製…

    堅牢かつ超小型アンマネージドイーサネットスイッチ『EDS-2000/G2000シリーズ』には、 産業用に特化したMoxaだからこその特長が詰まっています。 高さ8.1cm×幅1.8cm×奥行6.5cmの超小型サイズで、制御盤や機械などのスペースに制約のある場所への組み込みが容易に行え、複雑化・高密度化するネットワーク環境に柔軟に対応できます。 コンパクトながら、過酷な産業現場の環境下...

    • サムネイル画像_?EDS-G2000-2.jpg
    • Moxa_eds2000_ipros_5.jpg
    • Moxa_eds2000_ipros_2.jpg
    • Moxa_eds2000_ipros_3.jpg
    • Moxa_eds2000_ipros_4.jpg

    メーカー・取り扱い企業: アイ・ビー・エス・ジャパン株式会社

  • ステンレス 薄板(t0.3mm)ケース レーザー溶接 製品画像

    ステンレス 薄板(t0.3mm)ケース レーザー溶接

    薄板溶接 微細溶接

    ステンレス(SUS304) ケース レーザー溶接 薄板溶接 t0.3mm 歪まない溶接 【 素材 】 ステンレス  SUS304(板厚0.3mm) 【サイズ 】 サイズ:80×60×15(mm) 【 ロット 】 1個~ 【 加工方法 】 レーザーカット ⇒ 曲げ ⇒ レーザー溶接 【 製作期間 】 約5日~ ※状況や個数によって異なりますので、まずはお問...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社岩倉溶接工業所

  • アルミ 薄板溶接(t0.3mm) レーザー溶接 研磨 製品画像

    アルミ 薄板溶接(t0.3mm) レーザー溶接 研磨

    アルミのレーザー溶接 t0.3mm 微細・薄板溶接

    アルミ溶接(A5052) ケース レーザー溶接 薄板溶接 t0.3mm 研磨 【 素材 】 アルミ  A5052(板厚0.3mm) 【サイズ 】 サイズ:80×60×15(mm) 【 ロット 】 1個~ 【 加工方法 】 レーザーカット ⇒ 曲げ ⇒ レーザー溶接 ⇒ 研磨 【 製作期間 】 約5日~ ※状況や個数によって異なりますので、まずはお問い合わ...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社岩倉溶接工業所

1〜2 件 / 全 2 件
表示件数
30件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 構造計画研究所バナー画像再提出_128541.jpg
  • ipros_bana_提出.jpg

PR