• ピコ秒(ps)分解能で長い時間差を作る/測る 製品画像

    ピコ秒(ps)分解能で長い時間差を作る/測る

    PRT560 ディレイ/パルス発生器で時間差を作り、MCS8A マルチスト…

    ◆T560 ディレイ/パルス発生器  ・ディレイ時間とパルス幅が4チャンネル個別に指定でき、10ps刻みで最大10 秒まで設定可能  ・入出力遅延(インサーション・ディレイ):21ns  ・最大トリガ・レート:16MHz ◆MCS8A マルチストップTDC/TOF  ・複数のイベントタイムを記録できる8入力のデジタイザ  ・STARTとSTOPの間の時間差を、80psの分解能で最大8....

    メーカー・取り扱い企業: 大栄無線電機株式会社

  • ポータブル元素分析装置『MH-6000A』【設置工事不要】 製品画像

    ポータブル元素分析装置『MH-6000A』【設置工事不要】

    PR<液体の濃度変化にタイムリーに対応>設置工事不要のため【現場分析/即時…

    『MH-6000A』は、液体の濃度変化をタイムリーに管理したい場合や、 現場分析する際にお勧めのポータブル元素分析装置です。 ◇活用現場事例◇ ◎非鉄金属精錬 ◎金属表面処理 ◎飲料製造 ◎水耕栽培 ◎発酵・培養 etc... 小型で工事不要のため、分析ニーズのある場所に配置が可能。 即時分析ができ、DX化に寄与。 また、波長帯と分解能の調整もでき、アルカリ溶液の測定も可能です。 ガス配管...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マイクロエミッション

  • 【分析事例】分子動力学計算を用いたアモルファスSiNx膜構造解析 製品画像

    【分析事例】分子動力学計算を用いたアモルファスSiNx膜構造解析

    シミュレーションによってアモルファス膜のミクロな構造解析が可能です

    アモルファスSiNx(a-SiNx)膜は、N/Si比などの組成変化によって半導体から絶縁体まで物性が大きく変化することから、トランジスタ用ゲート絶縁膜など幅広い用途で用いられています。一方、結晶性のないアモルファス構造の材...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 【分析事例】XPSによる単結晶Si表面のダメージ評価 製品画像

    【分析事例】XPSによる単結晶Si表面のダメージ評価

    高分解能測定と波形解析を利用してc-Siとa-Siの状態別定量が可能

    うことがあります。その中で、単結晶Si表面に不活性元素のイオンを照射することで構造の損傷が生じ、アモルファス層が形成されることが知られています。 高分解能なXPSスペクトルではc(単結晶)-Siとa(アモルファス)-Siが異なったピーク形状で検出されることを利用して、この損傷由来のa-Siをc-Siと分離して定量評価した事例をご紹介します。...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

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