熱CVD装置

最高900℃の加熱制御が行えるホットウォール式の熱CVD装置

ホットウォール式の熱CVD装置です。最高900℃の加熱制御が行えます。 石英ガラス等の管状炉になっています。 化合物半導体のエピタキシャル成長など、純度を重視するプロセスに利用できます。 直感的に操作が行える手動装置の為、簡易的な実験を行う研究室、教育機関に適しています。 ◆詳しくは 　製品カタログ（PDFダウンロード）をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 　関連リンクからも製品カタロ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本シード研究所