設置スペースを約30％削減！全自動製函機『LAB-JVT』

PR自社開発・国内生産で短納期／省スペースを実現。為替レートの影響を受けに…

全自動製函機『LAB-JVT』は、マガジンに段ボールをセットするだけで 各種段ボールの製函からテーピングまでを全自動で行います。 海外委託生産から国内自社工場での生産に切り替えることで、 当社従来品「LAB-VT」から設置スペースを約30％削減し、生産能力も向上。 販売価格が為替レートの影響を受けにくく、納入リードタイムも短くなりました。 【特長】 ■供給、ケース開口、内フラッ...

メーカー・取り扱い企業： ロック株式会社 営業本部

PLC通信装置　高速電力通信『Nessum』※多様なI/Fに対応

PR各種線材において高周波信号を重畳し通信！同軸線やツイストペア線などで利…

PLC通信装置　高速電力通信『Nessum(ネッサム)』は、パナソニックが開発した電力線をはじめとする各種線材において高周波信号を重畳して通信を行なう方式です。 複数のターミナル(子機)を中継しながら電力線を使って通信ができるため、 配線長が長い工場やビルなどでもネットワークの構築が可能です。 第3世代に対し、帯域を2段階(×1/2,×1/4)に縮小 することで、 最大約2倍の距離...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヘルヴェチア

フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズ

最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能。

フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズはフォトレジストの研究開発用露光ツールです。ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能です。露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて現像解析することにより、フォトレジストの材料開発やプロセス開発を加速します。さらに、オプションの脱ガス捕集ユニットを用いることにより、露光中のレジストからのアウトガスの成分分析...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

フォトプロセス解析露光装置　ES-3500LP

ウシオ電機社製エキシマランプを搭載。193nm対応解析露光装置。

フォトプロセス解析露光装置　ES-3500LPはVUVES-4500で用いているレーザー光源の代わりに、ウシオ電機社製エキシマランプを搭載した装置。レーザー光源のような、 大がかりなガス供給システムを必要とせず、場所を選ばず設置可能。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【主な特徴】 ○g/h/i/248mm及びブロード光対応 ○露光エリア□10mm/25ショット 　...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社