• シリコン(Si)粉末 製品画像

    シリコン(Si)粉末

    PRSi純度2N~4N、粒度分布50nm~3mmに対応。ニーズに合わせカス…

    当社は、用途に応じた純度や粒度分布のカスタマイズに対応可能な 『シリコン(Si)粉末』を提供しています。 Si純度は2N(Si>99.0%)、3N(Si>99.9%)、4N(Si>99.99%)、 粒度分布は微粉末(100nm~)、粉末(1.0μm~)、粒体(1~3mm)に対応。 プラズマアーク合成により50nmまでの微粉化を実現した『超微粉末』もあり、 超微粉末はSi純度2Nに...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • 簡単操作で簡易切断可能!ファイバーレーザー溶接機【カタログ進呈】 製品画像

    簡単操作で簡易切断可能!ファイバーレーザー溶接機【カタログ進呈】

    PR多彩なダイレクトティーチ!ティーチング方法を選択することで、簡単教示を…

    当社で取り扱う、ファイバーレーザー溶接機「La Lucc Dio ハンディ」 +協働ロボット「FANUC CRX シリーズ」をご紹介します。 「FANUC CRX シリーズ」は、先進のロボット制御技術を使用することで レーザ加工に必要な姿勢制御や教示などを自由に行うことが可能。 レーザ専用アイコンは、直感的にプログラムを作成できます。 また、「La Lucc Dio ハンディ」は...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ラピュタインターナショナル

  • 酸化膜工程向けCMPスラリー『ILD(TM)シリーズ』 製品画像

    酸化膜工程向けCMPスラリー『ILD(TM)シリーズ』

    酸化膜工程用ヒュームドシリカスラリー

    【ラインアップ】 ■ILD3013  ・主成分:ヒュームドシリカ  ・ケミカル:アンモニア  ・砥粒濃度(wt%):13.7  ・pH:10.5  ・砥粒サイズ(nm):85 ■ILD3225  ・主成分:ヒュームドシリカ  ・ケミカル:KOH  ・砥粒濃度(wt%):25.7  ・pH:11.0  ・砥粒サイズ(nm):85 ※詳しくはPDF...

    メーカー・取り扱い企業: アンカーテクノ株式会社

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