• 偏光ビームスプリッター ワイヤグリッドタイプ・キューブ型 製品画像

    偏光ビームスプリッター ワイヤグリッドタイプ・キューブ型

    PRカスタマイズ可能なワイヤグリッド偏光ビームスプリッター、入射角依存の少…

    WGF(TM)を使用した、ワイヤグリッド偏光ビームスプリッターキューブタイプ(WGF(TM) PBS)です。 すでにハーフミラーをお使いの場合、WGF(TM) PBSに替えることで輝度向上が期待できます。 縮小系でも色や偏光度が部分的に変わることはなく、画像検査の精度を向上させます。 入射角依存が少なく、安定した光学性能を維持します。 ※WGF(TM)は旭化成の製品です。...規格品 WP...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社オプティカルソリューションズ

  • 連続離型性乾性離型剤フロロサーフ 微細成型用 ナノインプリント  製品画像

    連続離型性乾性離型剤フロロサーフ 微細成型用 ナノインプリント 

    PR連続離型性が高く、ナノレベルの表面形状やナノインプリントにも対応「フロ…

    焼き付けフッ素樹脂加工・シリコン離型剤を超える高性能フッ素系金型離型剤『フロロサーフ』をご紹介。 従来の離型剤では抜けない、連続離型性を向上させたい → そんな時に活躍します。 『フロロサーフ』はナノメータレベルの離型成分が母型表面に結合密着し、強力な非粘着性・潤滑性を金型表面に付与します。 精密複雑な形状の成形や粘着性の高い樹脂やエラストマー、割れやすい薄物の成形において、抜群の連続離型性を...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社フロロテクノロジー

  • 【納入事例】エチレンオキサイド・プロピレンオキサイド除去塔 製品画像

    【納入事例】エチレンオキサイド・プロピレンオキサイド除去塔

    715,000ppmより40ppm以下に除去!希硫酸水溶液にてEG、P…

    イーテクノが行った、エチレンオキサイド・プロピレンオキサイド除去塔の 納入事例をご紹介します。 ガス温度は60℃で、反応熱による収斂温度は72.1℃。 希硫酸水溶液にてEG、PGに反応変換させます。 処理ガス量は914.2Nm3/h、設計除去率は715,000ppmより 40ppm以下に除去します。 【事例】 ■納入先業種:樹脂 ■設計・設置機器:エチレンオキサイド・プ...

    メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社

  • 【環境装置納入事例】予冷塔+ベンチュリ―スクラバー(2) 製品画像

    【環境装置納入事例】予冷塔+ベンチュリ―スクラバー(2)

    処理ガス量は4568Nm3/h!気液接触は水(循環+補給)にて、冷却、…

    イーテクノが行った、予冷塔+ベンチュリ―スクラバーの納入事例を ご紹介します。 処理ガス量は4568Nm3/h、温度は60.4℃、白色顔料粉塵を除去対象物質とし、 ばいじん0.2g/Nm3→0.01g/Nm3以下となりました。 気液接触は水(循環+補給)にて、冷却、ヒューム除去。 循環液中の粒子は沈殿させ回収させます。 【事例】 ■納入先業種:化学 ■設計・設置機器:予...

    メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社

  • 【環境装置納入事例】予冷塔+ベンチュリ―スクラバー(1) 製品画像

    【環境装置納入事例】予冷塔+ベンチュリ―スクラバー(1)

    処理ガス量は100Nm3!カーボン微粒子を除去対象物質とした環境装置納…

    イーテクノが行った、予冷塔+ベンチュリ―スクラバーの納入事例をご紹介します。 処理ガス量は100Nm3で、温度は常時100-120℃、最大160℃。 ガス冷却設計値は、粒子径分布が提示されたので、そのデータを用いて 50℃から35℃以下で設計しました。 入口カーボン微粒子(ばいしん)濃度3~3.5g/Nm3、出口濃度0.1g/Nm3以下 (排出基準0.3/Nm3以下)となりました...

    メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社

  • 【環境装置納入事例】高濃度塩素ガス・青酸ガス除去塔 製品画像

    【環境装置納入事例】高濃度塩素ガス・青酸ガス除去塔

    出口濃度は青酸ガスで2ppm以下に!高濃度塩素ガス・青酸ガス除去塔の納…

    イーテクノが行った、高濃度塩素ガス・青酸ガス除去塔の納入事例を ご紹介します。 塩素ガス、青酸ガスを除去対象ガスとし、処理ガス量はMax.3600Nm3/hです。 入口濃度は、塩素ガスがMax.2vol%、青酸ガスが15vol%で、 出口濃度では、塩素ガスが0.5ppm、青酸ガスが2ppm以下となりました。 【事例】 ■納入先業種:化学 ■設計・設置機器:高濃度塩素ガス・...

    メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社

  • 【環境装置納入事例】粉塵除去塔 製品画像

    【環境装置納入事例】粉塵除去塔

    処理ガス量70Nm3/hx 2系列!フィルター手前での粗取りが80%の…

    イーテクノが行った、粉塵除去塔の納入事例をご紹介します。 洗浄液は水で、フィルター手前での粗取りが80%の設計除去率。 除去対象物質は、粉塵、酸性ガスを含み、粒子径は1μm~40μmですが、 10μm以上のものが85%以上となります。 【事例】 ■納入先業種:化学 ■設計・設置機器:粉塵除去塔 EHCUシリーズ ■処理ガス量:70Nm3/hx 2系列 ■除去対象物質:粉...

    メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社

  • 【環境装置納入事例】塩素ガス中の水分除去塔 3塔直列 製品画像

    【環境装置納入事例】塩素ガス中の水分除去塔 3塔直列

    入口で98%、出口では60%の硫酸濃度!濃硫酸で塩素ガス中の水分を吸収…

    イーテクノが行った、塩素ガス中の水分除去塔 3塔直列を納入した 事例をご紹介します。 濃硫酸で塩素ガス中の水分を吸収除去。処理ガス量は塩素ガス 1300Nm3/hです。 3塔直列で、20℃水分飽和より30wtppmまで水分を除去し、 硫酸濃度は、入口で98%、出口では60%となりました。 【事例】 ■納入先業種:化学 ■設計・設置機器:塩素ガス中の水分除去塔 3塔直列 ...

    メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社

  • 【環境装置納入事例】塩酸ガス除去塔 製品画像

    【環境装置納入事例】塩酸ガス除去塔

    水による吸収はMax90℃!塩酸ガス5ppm以下の出口濃度となった納入…

    イーテクノが行った、製鉄業へ塩酸ガス除去塔を納入した事例を ご紹介します。 水による吸収はMax90℃。処理ガス量は6750Nm3/h、除去対象ガス・濃度は、 HCI微量、CI2ガス微量、粉塵、Fe2O3です。 出口濃度は、塩酸ガス5ppm以下となり、塩素ガス、粉塵共に成り行きです。 【事例】 ■納入先業種:製鉄 ■設計・設置機器:塩酸ガス除去塔 E730シリーズ ■処...

    メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社

  • 【環境装置納入事例】PO除去装置 製品画像

    【環境装置納入事例】PO除去装置

    充填高さは3.7m!酸化プロピレンを除去対象物質とした環境装置納入事例…

    イーテクノが行った、PO除去装置の納入事例をご紹介します。 処理ガス量は25Nm3/min、ガス温度は70℃、酸化プロピレンを 除去対象物質としています。 充填高さは3.7mで、入口濃度は43,693ppm、出口濃度は 2,185ppmとなっています。 【事例】 ■納入先業種:化学 ■設計・設置機器:PO除去装置 E730シリーズ ■処理ガス量:25Nm3/min ■...

    メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社

  • 【環境装置納入事例】ゴム粉塵除去塔 製品画像

    【環境装置納入事例】ゴム粉塵除去塔

    除去率は90%以上!ゴム微小粉塵を除去対象とした環境装置納入事例をご紹…

    イーテクノが行った、ゴム粉塵除去塔を納入した事例をご紹介します。 処理ガス量は100,800Nm3/h、除去対象はゴム微小粉塵。 充填塔はID4515×H7000です。 水による洗浄で、除去率は90%以上になります。 【事例】 ■納入先業種:ゴム製造 ■設計・設置機器:ゴム粉塵除去塔 ■処理ガス量:100,800Nm3/h ■除去対象粉塵:ゴム微小粉塵 ■除去率:90...

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