• 偏光ビームスプリッター ワイヤグリッドタイプ・キューブ型 製品画像

    偏光ビームスプリッター ワイヤグリッドタイプ・キューブ型

    PRカスタマイズ可能なワイヤグリッド偏光ビームスプリッター、入射角依存の少…

    WGF(TM)を使用した、ワイヤグリッド偏光ビームスプリッターキューブタイプ(WGF(TM) PBS)です。 すでにハーフミラーをお使いの場合、WGF(TM) PBSに替えることで輝度向上が期待できます。 縮小系でも色や偏光度が部分的に変わることはなく、画像検査の精度を向上させます。 入射角依存が少なく、安定した光学性能を維持します。 ※WGF(TM)は旭化成の製品です。...規格品 WP...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社オプティカルソリューションズ

  • レンズ用表面形状測定機 MarSurf LD Aspheric 製品画像

    レンズ用表面形状測定機 MarSurf LD Aspheric

    PR非球面レンズの両面を一度に測定できる表面形状測定機。高精度&高速測定で…

    特許取得の独自構造によりレンズの表・裏を一度に測定出来る 表面形状測定機『MarSurf LD 130/260 Aspheric 2D/3D』 2024年4月 OPIE'24(株)マブチ エス アンド ティー ブースに実機を展示! レンズの表裏を変える必要がなく、セッティングの手間を削減できるほか、 高精度・高速測定が行えるため、測定作業の短縮に貢献。 また、0.5mNという低測定圧での測定が可...

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    メーカー・取り扱い企業: マール・ジャパン株式会社

  • 今さら聞けない大気圧プラズマ装置の選び方 ※解説資料進呈 製品画像

    今さら聞けない大気圧プラズマ装置の選び方 ※解説資料進呈

    "大気圧プラズマ装置の処理形態"や"当社独自の装置特長"などについて解…

    【当社独自の装置特長(ダウンストリーム型)】 ■幅広、長尺物への均一処理(100ミリ~3000ミリ) ■半導体チップ上の処理も可能(処理後のトランジスタ特性変化なし) ■4nmのL&Sでも絶縁破壊等の発生が無い ■ワーク内部の分子間架橋特性変化や分子切断の影響やダメージ発生がない ■Particle発生が無い(0.3μ以上及び2.83SLMのサンプリング時) ■窒素消費が...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア

  • 大気圧プラズマ装置を用いた粒子への効率的表面改質 製品画像

    大気圧プラズマ装置を用いた粒子への効率的表面改質

    大気圧プラズマ装置による効率的な表面処理を実現!バグフィルターにて捕獲…

    加速制御及びスパッタ効果の抑制効果から、Particle発生が無い ■誘電体電極寿命が半永久的に使用でき、ランニングコスト低減 ■半導体チップ上の処理も可能(処理後のトランジスタ特性変化なし<4nm以上のL/S>) ■プラズマ発生エリアとワーク間距離を最小限にする構造(特許)により、高性能化が実現 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア

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